中古 APPLIED MATERIALS Endura 5500 #182849 を販売中

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ID: 182849
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1994
System, 6" Umbilicals 25' Chamber 1: Ti 11.3 source STD Body MDX L6 Chamber 2: Tin 11.3 source Wide Body MDX L12 Chamber 3: AL 11.3 source STD Body MDX-L12 Chamber 4: Tin 11.3 source WB Body MDX L12 Chamber A Pass: PC I (Missing) Chamber F Orient: standard MFC/Baratron: STEC 4400 Loadlock / Cassette: Narrow body Locdlock Buffer/Transfer Robot HP Robot Blade x2 Compressor 8510 x 2 Cryo Pump 1 phase Heat Exchanger Neslab Stored in a clean room 1994 vintage.
アプライドマテリアルズEndura 5500は、半導体ウェーハの表面に膜を堆積させるために使用される高度なプラズマ強化化学蒸着(PECVD)原子炉です。Endura 5500リアクターは、精密で効率的かつ再現性のある蒸着プロセスで優れた品質のフィルムを提供するように設計されたプロセス機器です。これは、様々なプラズマ関連パラメータを変化させるなど、堆積プロセスを最適化するためのいくつかの方法を利用しています。応用材料Endura 5500リアクターは、高度な技術を使用して均一なプラズマ放電を生成し、再現性と信頼性の高いフィルムを作成するのに役立ちます。金属と金属の真空シールを備えており、Oリングやその他の金属シールの必要性を排除し、非常に精密で反復可能な圧力制御を可能にします。また、低分散圧の熱伝導冷却ガス分配システムを採用し、ウェーハへのガス供給も可能です。Endura 5500リアクターは、マグネトロンスパッタリングやリアクティブスパッタリング、その他のプラズマ強化化学蒸着、PECVD、 Etchプロセスなど、さまざまなプロセスに対応するように構成できます。また、高性能プロセスコンピュータシステムを搭載し、プロセスの精度を高めています。リアクターはリモートで監視でき、プロセス結果のリアルタイム監視とフィードバックを提供します。APPLIED MATERIALTS Endura 5500リアクターには、高度なハードウェアとソフトウェアの進歩があり、プロセスのスループットと歩留まりを大幅に向上させます。60nm/secのフィルム蒸着速度を実現し、一定のガス配分システム、ローカルおよびグローバルRFマッチング、デュアルチャンバー同時操作、動的RFおよび独立したバイアス制御など、プロセスの再現性と再現性を向上させるいくつかの機能を備えています。最後に、Endura 5500リアクターは、ウェーハの表面に高品質で超滑らかなフィルムを作り出すことに成功したことが証明されています。これにより、涙や傷に対する耐性の向上、誘電特性の向上、化学薬品や摩耗に対する耐性の向上など、さまざまな利点が得られます。さらに、アプライドマテリアルズEndura 5500リアクターを使用することで、太陽電池や蓄電池などの様々な電子機器の大型ウエハに簡単にフィルムを堆積させることができます。
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