中古 APPLIED MATERIALS Endura 5500 #180431 を販売中
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販売された
ID: 180431
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1999
PVD system, 8"
Specifications:
Main frame: through the wall configuration
Wafer handing: SNNF
Front panel type: Painted
Software version: 8.91
Single board computer in controller: Yes
Ion gauges: 451 nude
Robots:
Buffer robot: HP+
Blade material: Original metal
Load lock: No wide body
Index handler type: Enhanced tilt out
Loadlock vents: Variable soft vent + fast vent
Transfer robot: VHP
Blade material: CVD compatible
Narrow body: Yes (Tilt-out)
Chamber specifications:
Chamber 2:
Metal / Applic.: IMP Tin
Body Style: Vectra Imp
Source type: Vectra Imp
Power Supply: 12kW
Power Supply: 12kW
Heater: B101
Basic chamber setup:
A. Pass through
B. Cool down
C. PC 2
D. PC 2
E. Orientor with Std Degas
F. Orientor with Std Degas
Gasline fittings: AMAT specifications
For preclean / CVD:
Chamber C:
Vacuum pump type: Ebara
RF match: 180431
Cable length: 75"
RF match type: 8"
Power supply: RFPP 10A
Chamber D:
Vacuum pump type: Ebara
RF match: 180431
Cable length: 75"
RF match type: 8"
Power supply: RFPP 10A
MFC type:
Process MCF-1:
2: AR (size 100)
3: Hecar; BTpur;EDpur ;Phat (size 500;2000;3000;1)
4: AR (size 100)
C: AR (size 20)
D: AR (size 20)
Process MFC-2:
2: N2 (size 100)
3. 500;2000;3000;1 (size 1000;1000;1000)
C. AR (size 300)
D. AR (size 300)
Paste chamber: Yes (chamber 5)
System roughing pump type: Ebara
Chamber cryo pump type: OB8F
Umbilicals:
- mainframe to controller: Yes
- mainframe to generator racks: Yes
- mainframe to cryo compressor: Yes
- main AC to system controller/sys. AC: Yes
- syst cont/sys AC to primary Gen rack: Yes
- main AC to primary generator rack: Yes
- main AC to pump frame: Yes
- main AC to Neslab heat exchanger: Yes
- monitor cable: Yes
- monitor2 cable: Yes
- monitor3 cable: Yes
CE Mark: Yes
EMO Option: Yes
EMO button guard rings: Yes
Water leak detector: Yes
Buffer and transfer lid hoist: NO
Support Equipment:
Heat exchangers:
Number: 1
Type: AMAT
Cryo compressors: Yes
Number: 2
Type: 9600
Cryo He lines Yes
Neslab present: Yes
Resistivity meter: NO
Manuals not included
Installed
1999 vintage.
アプライドマテリアルズEndura 5500は、シリコンベースのデバイスの性能と信頼性の向上に特化したハイエンドのマルチチャンバーリアクターです。Endura 5500は、最高の品質と精度を維持しつつ、可能な限り低コストで高収量を提供するように設計されています。APPLIED MATERIALS Endura 5500の高度な設計により、沈着、エッチング、アニール、沈着、エッチング、検査など、さまざまなシリコンベースのプロセスを単一のツールで実行できます。その結果、Endura 5500は業界最高の収率で最高のスループットを提供することができます。アプライドマテリアルズEndura 5500は革新的なデュアルポンプ装置を使用しており、生産のすべての段階でプロセスパラメータを柔軟かつ高速にチューニングできます。このシステムは、汚染を低減するために非常に効率的なポンプ速度を使用すると同時に、多くの異なるプロセスを完了するために必要な電力を提供します。さらに、このユニットはウェーハ上の赤外線加熱を利用しており、ユーザーはプロセス温度を完全に制御できます。Endura 5500は、最先端の半導体プロセスを使用した半導体ウェーハの製造に適した信頼性と堅牢性の高い原子炉です。機械は手動介入なしで複雑なプロシージャの実現を可能にする高度のオートメーションが装備されています。さらに、アプライドマテリアルズEndura 5500は、最新の制御システムと互換性があるように設計されており、さまざまなソフトウェアプラットフォームをツールに統合できます。Endura 5500は、化学蒸着（CVD）をはじめとする様々なプロセスを実行し、制御された環境で材料を堆積させ、1100°Cまでのプロセス温度と10 Torrまでの圧力範囲を処理することができます。これにより、メタライゼーションやフォトリソグラフィなどの片面および両面プロセスを迅速かつ高度な制御で完了させることができます。APPLIED MATERIALS Endura 5500には、結晶成長とドーピングサービスが可能な独自のCrystal Grower Module （CGM）が搭載されています。CGMは温度と圧力を正確に制御し、制御された材料と正確にドープされた材料を得ることができます。Endura 5500リアクターは、自動化され、費用対効果が高く、技術的に高度な資産であるように設計されています。包括的な機能により、最高レベルの精度と品質を必要とする半導体デバイスの製造に最適です。この原子炉は信頼できる信頼できる用具で、多くの異なったプロセスのために適した、信頼できる性能を今後何年もの間提供します。
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