中古 APPLIED MATERIALS Centura HDP CVD #100063 を販売中

応用材料Centura HDP CVDは、高度なマイクロエレクトロニクスおよびナノテクノロジー処理アプリケーション向けに設計された高度な化学蒸着（CVD）装置です。このシステムは、従来のCVDシステムと比較してパフォーマンスが向上し、柔軟性が向上し、均一性が向上するように設計されています。ユニットには、石英チューブと2つの加熱サセプター、下部と上部、ガス供給機が装備されています。クォーツチューブはシングルエンド圧力チャンバーで、クォーツチューブ、その上下フランジとシール、内腔フィードスルー、およびレベルアジャスターが含まれています。サセプターは赤外線ランプによって加熱され、基板の急速な加熱と冷却が行われます。それはまた基質の表面を渡る均一な熱場を作り出します。Centura HDP CVDのガス供給ツールは、ガス流量計、シーケンスバルブ、ブランケットガス供給、バイパスバルブで構成されています。ガスフローメータは、個々のガスシリンダからのガス供給流量を正確に測定することができます。シーケンスバルブは、ガス源から資産へのガスの流れを制御するのに役立ちます。毛布のガス供給は基質上の累積不活性ガスの毛布の配達を可能にします。バイパスバルブは、誤動作の場合にモデルのチャンバーを空にするために使用されます。さらに、真空ポンプと安全弁、圧力計、熱電対センサーを装備し、チャンバー内の真空レベルと温度レベルをそれぞれ監視および測定します。応用材料Centura HDPのCVDシステムにまたユーザーが異なったフィルム質および均等性のレベルを作り出すためにさまざまなプロセスパラメータをプログラムすることを可能にする強力なコントローラーソフトウェアがあります。このソフトウェアは、プロセスレシピと設定を保存、分析、再作成するためにも使用できます。このユニットは、高速な蒸着速度と均一性で高いスループットを提供し、同時に堆積膜の品質を制御します。アルミニウム、銅およびチタンのような金属および他の金属ベースのフィルム、およびいろいろ誘電性フィルムおよび酸化物を沈殿させるのに使用することができます。また、ALD （Atomic Layer Deposition）やConformal Deposition （Conformal Deposition）といった様々なプロセスでの作業も可能です。Centura HDP CVDツールは、製造業界にとって非常にアクセス可能な信頼性の高い最適化されたCVDエクスペリエンスを提供します。最新の半導体およびナノテクノロジー製品の成功に不可欠な、均一性と純度の向上による高品質の成膜が可能です。