中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9249285 を販売中
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販売された
ID: 9249285
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2009
HDP CVD System, 12"
(2) Load ports
FI Alignment: FI Alignment fixtures
Atmospheric robots: YASKAWA XU-RCM6841
Monitors: Chase type (Rack)
Slit valve:
(2) Parker AD276510A
(3) VAT A-728585
Transfer chamber robots: STD Reach dual blade robot (Clear Lid)
Chiller: SMC INC-498-011C
Chamber A:
TMP: SHIMADZU TMP-H3603LMC-A1
Gas ring: 36
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber B:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
RPC: AX7670
Process Kit
Chamber D:
TMP: EDWARDS STP-XH3203P
Process Kit
RF Generator type:
(6) MKS Spectrum 11002
(3) MKS Spectrum 10513
Gas configurations:
Chamber A:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 Ar 1,000
Line 6 He 600
Line 7 H2 1,000
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 NF3 400
Line 11 NF3 5,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber B:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
Chamber D:
Gas Size
Line 1 O2 1,000
Line 2 H2 1,000
Line 3 He 600
Line 4 SiH4 400
Line 5 PH3 20
Line 6 Ar 1,000
Line 7 PH3 10
Line 8 SiH4 50
Line 9 Ar 50
Line 10 He 600
Line 11 NF3 3,000
Line 12 Ar 3,000
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima Xは、ウエハーやその他の基板上の材料層の堆積に使用される原子炉です。半導体業界で使用するために設計されており、現在利用可能な最も信頼性が高く、正確で生産性の高い原子炉の1つであると考えられています。AMAT Ultima Xリアクターは、化学蒸着(CVD)、物理蒸着(PVD)、原子層蒸着(ALD)など、幅広い蒸着プロセスのために構築されています。その設計は材料の精密な沈殿を可能にする多数のレベルの暖房の熱くされた、絶縁された部屋から成っています。プロセス要件に応じて2から8までのチャンバーを備え、各チャンバーには最適な結果を得るために温度、圧力、ガスの流量を調節する配送装置が装備されています。アプライドマテリアルズUltima Xは、高い性能と信頼性を提供します。高温勾配と低熱質量を兼ね備えており、プロセス時間を最大40%短縮できる高い蒸着率を実現しています。その先進的な設計により、低温均一性、低熱ドリフト、およびより高い寿命性能が可能になります。Ultima Xはまた、オプションのクリーンインプレイス(CIP)およびラピッドソリューショントランスファー(RST)機能を提供し、迅速かつ効率的な処理を保証します。AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima Xは、ユニットの効率と信頼性を最大化する高度な制御システムも提供しています。その統合された制御機械は高性能および柔軟性のために設計され、ユーザーは各アプリケーションの特定の必要性に基づいて用具の操作をカスタマイズすることを可能にします。in-situ diagnosticsやcalibration、高速同期、統合されたガス流量と温度制御などの機能が含まれています。全体として、AMAT Ultima Xは半導体産業の蒸着プロセス用に設計された先進的で信頼性が高く高性能な原子炉です。高い蒸着速度、低熱ドリフト、一貫した制御資産により、要求の厳しいプロセスにおいても、正確で正確かつ一貫した結果を提供することができます。
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