中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Ultima X #9236849 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima Xは、高温超高真空成膜装置です。このシステムは、誘導結合プラズマ（ICP）源を使用して、半導体基板およびその他の材料上の複数の材料の高精度の薄膜蒸着を可能にします。この単位は任意レーザーの干渉計およびフィルムの厚さの沈殿を制御する高出力の水晶モニターとの非常に精密な薄膜の厚さのプロフィールを、達成するように設計されています。AMAT Ultima Xリアクターは、コンピュータ制御された密閉されたプロセスチャンバーを持ち、単一のソースのプラズマ源と必要な排気装置を備えています。このツールは、室温から最大1050°Cまでの幅広い調整可能なプロセス温度を備えており、最大200nm/minの蒸着速度を達成できます。この高い蒸着速度により、高速な蒸着速度を必要とする銅バリア/ライナーアプリケーションなどの用途に特に適しています。APPLIED MATERIALS Ultima Xアセットには、様々なガスの流れや圧力を正確に制御できる様々なガス制御システムや、高いアスペクト比の構造を成膜するための電極を使用しない平面ソースなど、さまざまなアクセサリーや機能があります。Ultra-High Vacuum （UHV）モデルは、10-7 Torrのベースプレッシャーを提供し、汚染を最小限に抑えた超薄層の精密な蒸着を実現します。Ultima Xにはさまざまなコンピュータ支援設計（CAD）ソフトウェアパッケージも含まれており、堆積ジョブを簡単にプログラムできます。沈着ジョブはもちろん、沈着ジョブを試したり、必要に応じて微調整したりすることもできます。この装置では、単一のウェーハ/チャンバーレベルの蒸着または複数のウェーハ/チャンバーレベルの蒸着を実行できます。AMAT/APPLIED MATERIALS Ultima Xは、銅、チタン、タンタル、グラファイト、アルミニウム、ニオブ、タングステンなどの薄膜成膜に最適で、研究開発、ハイエンド製造、生産システムに最適です。汎用性の高い設計により、複雑な堆積要件を満たすための費用対効果の高い方法です。