中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Smartweb SL-3L/800 #293745938 を販売中

ID: 293745938
ヴィンテージ: 2018
Roll to roll coating system (2) Chillers Roughing pump system Process and rewinding module Media supply Electrical cabinet Cooling Heating Trolley Cathode colling Control PC Console table Scrubber Coatings: Materials / Mode Metals: Copper, Gold, Silver, Aluminium, Molybdenum, Titanium / DC Alloys: Ni/Cr 80/20 / DC Dielectrics: ITO, AI:ZnO / DC SiOx, AI2O3, TiO2 /MF ZnO / DC, MF System cooling water: Inlet pressure: 4 to 6 bar Outlet pressure: Pressure-less, Open drain Consumption: Maximum 50 m³/h Average consumption: Approximate 26 m³/h Temperature (Inlet): Minimum 18°C, Maximum 22°C Temperature rise: Maximum 6°C Carbonate hardness: <6 to 8° pH value: 8.5 to 10 particle size: Maximum 100 μm Particle concentration: Maximum 10 parts/cm³ CO2-content: Maximum 15 mg/l CI-content: Maximum 20 mg/l Cathode cooling circuit: Filling quantity: Approximate 1100 Liters Carbonate hardness: <7° pH value: 8.0 to 9 Particle size: <5 µm Solved oxygen: Maximum 5 mg/l Resistivity at + 25°C: >2 x 103 Ohm cm Compressed air: Pressure: 6 to 7 bar Average consumption: Approximate 1 m³/h Particle size: Maximum 5 µm Particle concentration: Maximum 5 mg/m³ Oil-content: Maximum 5 mg/m³ Dew point: 2°C Gases: Argon, Nitrogen, Oxygen, Argon/Oxygen 80/20 Pressure: 1, 2 bar Purity: 99.995 Gas tubing: Stainless steel, Coupling Winding: Web speed: 0.5 to 20.0 m/min + 0.1% of nominal speed at the motor shaft Unwind / Rewind: 60 to 600 N Tension measuring rollers with analog load cell Vacuum: Ultimate pressure: <8 x 10^-7 mbar in sputtering compartments of process modules Pump down time to ultimate pressure: 24 Hours Pressure during sputtering: 1 to 9 x 10^-3 mbar Pump down time to 6 x 10^-6 mbar: <60 minutes Measured at a pressure: < 2x10^-3 mbar Gas separation factor between sputter compartments and sputtering compartments: >100: 1, only for maximum substrate thickness loaded Electrical Services: Voltage: 400 V +10/-10% 50 Hz, 3 Phase, TN-network with loadable PEN for 60 Hz Connected load: 320 kVA Average consumption: Approximate 240 kW Short circuit current: Maximum 50 kA Process coating: Magnetron sputtering coating technology One coated side Substrate width: Maximum 820 mm Coating area web width reduced: 10 mm Coating width: Minimum: 300 mm, Maximum: 600 mm Environment: Temperature: Minimum 15°C, Maximum 35°C Humidity: Maximum 90% at 20°C, Maximum 50% at 35°C Maximum altitude of installation site: 1000 m above sea level 2018 vintage.
AMAT Smartweb SL-3L/800炉は、先進的な半導体製造プロセス向けに設計された最先端の薄膜蒸着装置です。この洗練されたツールには、革新的な技術が組み込まれており、高いレベルのフィルムの均一性、プロセス制御、生産性を実現しています。SL-3L/800炉は、集積回路やその他の電子デバイスの製造において優れた性能と信頼性で知られているAPPLIED MATERIALTS Smartwebシリーズの一部です。SL-3L/800炉の中核には高度なチャンバー設計があり、蒸着プロセスを正確に制御できます。この原子炉にはマルチゾーン温度制御システムが装備されており、基板表面全体のフィルム特性を最適化することができます。この機能は、半導体デバイスの性能と信頼性に重要な膜厚の優れた均一性と一貫性を保証します。SL-3L/800炉は高スループット構成を採用し、基板の大型バッチサイズに薄膜を堆積させることができます。この機能により、半導体製造事業における生産性とコスト効率が大幅に向上します。この原子炉は、さまざまな基板サイズ、形状、および材料に対応するように設計されており、生産プロセスにおける柔軟性と汎用性を提供します。SL-3L/800炉の主な特徴の1つは、ガスの流れとチャンバー内の混合を正確に制御する高度なガス分配ユニットです。この機能は、堆積膜の均一性と純度を高め、半導体デバイス全体の品質に貢献します。また、高性能圧力制御機を搭載し、安定したプロセス条件とフィルム特性の向上を実現しています。SL-3L/800炉はAMAT/APPLIED MATERIALS独自のSmartwebソフトウェアプラットフォームと統合されており、包括的なプロセス監視および制御機能を提供します。このソフトウェアは、リアルタイムのプロセス最適化、障害検出、およびデータ分析を可能にし、高いプロセス再現性と歩留まりを保証します。Smartwebプラットフォームはまた、原子炉のリモート監視と制御を可能にし、運用効率を促進し、ダウンタイムを削減します。蒸着能力の面では、SL-3L/800炉は誘電体、金属、半導体など、幅広い薄膜材料をサポートしています。原子炉は、高度な半導体デバイスの製造に不可欠な、正確な厚さと組成制御でフィルムを堆積することができます。フロントエンド・オブ・ラインまたはバックエンド・オブ・ラインのアプリケーションにかかわらず、SL-3L/800炉は最先端の半導体製造プロセスに必要な柔軟性と性能を提供します。結論として、AMAT Smartweb SL-3L/800炉は、半導体製造における精度、生産性、信頼性を兼ね備えた最先端の薄膜蒸着ツールです。先進的なチャンバー設計、高スループット機能、統合ソフトウェアプラットフォームにより、SL-3L/800炉は次世代の電子機器の製造において卓越した性能を発揮します。この原子炉は、半導体産業における重要な技術進歩であり、市場の動向や用途の変化に対応するために製造業者に力を与えています。
まだレビューはありません