中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Siconi R2 #9375625 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Siconi R2リアクターは、半導体ウェーハやその他の薄膜デバイスなどの基板上に薄膜を作成するために使用されるCVD（化学蒸着）炉です。AMAT Siconi R2は、正確な膜厚、均一性、組成精度で信頼性の高い再現性のある成膜結果を提供するように設計されています。この炉は温度制御されており、ウェーハ平面全体で+/-3°Cの温度均一性をサポートし維持するように設計された石英炉を備えています。また、より良い温度と圧力制御を可能にし、堆積均一性を向上させるデュアル排気システムが含まれています。応用材料Siconi R2はまた速い流れの細胞交換および複数の試薬を使用する機能を可能にする低温の底なしのガスパネルを特色にします。また、低圧ボウタイおよびスリット注入器、ガス混合セル、およびフィルム特性を向上させるための前加熱および後加熱をサポートしています。沈着能力に加えて、シコーニR 2には、高品質の結果を確実に達成するためのプロセス分析と監視が含まれています。リアクターには、プロセスの問題を検出するためのin-situシステム診断を含むリアルタイム/実行監視の終了が装備されています。また、パフォーマンスデータの収集、保存、分析を可能にするオンボードシステムを搭載しており、プロセス監査証跡を自動作成し、CVDプロセスの信頼性と再現性を向上させます。AMAT/APPLIED MATERIALS Siconi R2は、単結晶、非結晶、化合物、酸化物材料などの幅広いウエハ基板をサポートしており、メモリおよびロジックデバイスの製造、ナノ構造、高誘電層など、さまざまな用途に最適です。全体として、AMAT Siconi R2は、正確な膜厚と均一性を備えた信頼性と再現性の高いCVD成膜を提供し、さまざまな種類のプロセスで高品質の結果を得ることができます。この原子炉には、プロセス性能とモニタリングを向上させる多数の機能が含まれており、薄膜蒸着アプリケーションにとって多目的で信頼性の高い選択肢となっています。