中古 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275291 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Enduraは、半導体加工に特化した物理蒸着（PVD）炉です。これは、高度なロジックやメモリ製品など、さまざまなデバイスに高性能な蒸着プロセスを提供することができる、費用対効果が高く、信頼性が高く、柔軟なインライン機器です。EnduraのPVDチャンバーには、精密なアライメントとオンザフライウェーハハンドリングで最高のスループットを提供する自動ロボットローダーが装備されています。このチャンバーは、厳格なプロセス制御と再現性により、優れたプロセス安定性を提供するように設計されています。高度なロボット技術により、PVDプロセスパラメータを高精度に調整して欠陥を最小限に抑え、高品質のエピタキシャルフィルムを提供します。Endura PVDチャンバーは、幅広いガスを均一に操作することで均一でクリーンなカバレッジを提供し、アルミニウム、銅、タングステン、特にシリコンゲルマニウム（SiGe）のアルミニウム含有量など、さまざまな材料と互換性があります。Endura PVDチャンバーは、高密度プラズマを使用して、非常にコンフォーマルで欠陥のない薄膜層を形成します。チャンバーは、大気および真空ゲートシステムと組み込むことができ、同時に蒸着とエッチングを行うことができます。チャンバーは断熱されているため、熱伝達は一貫しており最小限であり、チャンバー全体およびウェーハ間の温度安定性を確保します。Endura PVDチャンバは、均一なガス分布（UGD）ユニットを備えており、均一なカバレッジのために、ウエハあたりのガス流量と成長速度を制御します。Endura PVDチャンバは、プログラマブルな光学マシンを備えており、自動化されたアライメントとキャリブレーションによる幅広い光学構成オプションを可能にします。Endura PVDチャンバは、低メンテナンス要件で設計されており、プロセスの可視性を向上させるために設計されており、プロセスをより迅速に調整して歩留まりを最適化し、新しいプロセスの可能性を探求することができます。さらに、Endura PVDチャンバは、コンパクトなフットプリント内で高スループットを提供します。