中古 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275288 を販売中

AMAT （APPLIED MATERIALS） AMAT/APPLIED MATERIALIES PVD Chamber for Enduraは、半導体業界の厳しい要件を満たすように設計された高性能物理蒸着（PVD）炉です。このモジュラープラットフォームは、さまざまなアプリケーションに幅広い熱処理機能、化学プロセス、物理プロセス機能を提供します。このチャンバーは、幅広い金属蒸着および材料加工ニーズのための幅広いプロセスウィンドウを提供する堅牢な設計を特徴としています。最大4つのプロセスモジュールに対応できるため、ユーザーは新しいテクノロジーやアプリケーションに対応するためにレイアウトを迅速に再構成および調整できます。このチャンバーのモジュラー構造と再構成可能なレイアウトにより、エンドユーザーはプロセスの変更にすばやく適応することができ、テクノロジーの移行を高速化できます。PVDチャンバは、湿式および乾式の両方の蒸着中に幅広いプロセスガスを駆動し、自動レギュレーションバルブとマスフローコントローラを備えています。エンデュラは、プロセスモジュール全体の熱均一性を最大化し、ホットスポットを排除し、優れた層の堆積を確保するために、高度な冷却システムで設計されています。PVDチャンバーは、銅、タングステン、アルミニウム、チタンなどの幅広い金属や材料を堆積することができます。また、高度な基板上に高品質のコーティングを堆積させるための高レートスパッタ成膜など、多くのユニークなプロセス機能を提供しています。また、カソード径と目標速度を変化させるプログラム可能なオプションを備えており、複雑な形状成膜プロファイルと薄膜特性を実現しています。チャンバー自体は、環境グレードの絶縁ポリウレタンパネルに収納された電子キャビネットに囲まれており、環境への影響を最小限に抑えます。キャビネット内のコントローラはXPSシステムにリンクされており、圧力、温度、およびプロセスパラメータを自動的に調整および監視することができます。さらに、ユーザーフレンドリーなタッチパネルを介してチャンバーを操作することで、パラメーターの管理、レシピの追跡、チャンバーシステムの監視が簡単に行えます。全体として、AMAT PVD Chamber for Enduraは、柔軟な設計、強力なプロセス機能、操作性を備えた半導体製造に最適です。さまざまな金属や材料を堆積している場合でも、より複雑なプロセス機能を探している場合でも、APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Enduraは、生産ニーズに合わせて信頼性の高い強力なソリューションを提供します。