中古 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275270 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Enduraは、半導体デバイス製造用に設計された高度なプラズマ強化物理蒸着（PVD）原子炉です。このチャンバーは、プロセスガスの線形投与を利用して、再現可能な蒸着速度と均一な沈殿プロファイルを生成します。PVDチャンバは、半導体製造プロセスにおける基板上の薄膜のハイスループット、高品質のPVD成膜用に設計されています。PVDチャンバーは強力なマグネトロン源、金属セラミック構造、自動化されたプロセス制御装置を備えています。金属セラミック構造により、堅牢で耐久性のある設計が保証され、自動化されたプロセス制御システムは、蒸着のための正確で反復可能なパラメータを提供します。マグネトロン源は、高品質の蒸着を生成する高レベルのエネルギーを生成します。PVDチャンバーの線形投与プロセスは、一貫した反復可能で均一な蒸着を容易にします。このチャンバーは、サーマルバリアコーティング、金属パタリング、窒化膜の蒸着など、さまざまな蒸着プロセスを提供するように設計されています。PVDチャンバーには、ウェハロードロック、ポンピングステーション、および負荷/アンロードポートが装備されています。ウェハロードロックは、望ましくないプロセスガスの損失や粒子の汚染を防ぐための効率的なステージング領域を提供します。ポンピングステーションは、チャンバーの迅速な避難を可能にし、短い処理サイクル時間を可能にします。ロード/アンロードポートは、ユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスやUSBケーブルを介したリモートコンピュータへのアクセスなどの機能を備え、堆積プロセスへの簡単なインタフェースを提供します。チャンバは、温度制御モジュール、温度読み出し、および静電容量センサを含む高度な制御およびモニタで設計されています。温度制御モジュールは正確で再現性のある動作を保証し、温度読み出しはプロセスを視覚的に監視します。静電容量センサは、蒸着速度、プロファイル、均一性など、蒸着プロセスに関する継続的なフィードバックを提供します。PVDチャンバーには、チャンバーの圧力と真空レベルを監視する統合された安全ユニットがあり、異常発生時にアラームを提供します。セーフティマシンには、必要に応じてチャンバーを電源オフするための制御モジュールも含まれています。AMAT PVD Chamber for Enduraは、大量の高品質の半導体製造プロセス向けに設計された高度なPVDチャンバーです。このチャンバーは、プロセスガスの線形投与、金属セラミック構造、および自動プロセス制御ツールを使用して、蒸着のための正確かつ再現可能なパラメータを提供します。このチャンバーには、ウェーハロック、ポンピングステーション、およびウェーハの効率的かつ容易な転送のための負荷/アンロードポートが装備されています。高度な制御、モニター、および安全システムにより、堆積結果の精度と信頼性が保証されます。