中古 AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275254 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Enduraは、物理蒸着（PVD）用に設計された特殊なタイプの原子炉です。この原子炉は、金属、プラスチック、セラミックス、ガラスなどの多くの基板に様々なフィルムを堆積させるために、難燃性の前駆材料を利用しています。AMAT PVD Chamber for Enduraは薄く均一な層に膜を堆積させるための高性能ツールです。これは2ゾーン設計を備えており、ユーザーは堆積プロセスを最適化するために基板と周囲の雰囲気の温度を制御することができます。これにより、多くのPVDアプリケーションに不可欠な正確な膜厚制御が可能になります。チャンバーは、最大650°Cの反応温度を可能にする高真空環境を備えています。このチャンバーはまた、汚染リスクを最小限に抑える独自の低ガス圧力機能を備えています。温度制御と圧力制御を組み合わせることで、フィルム構造を均一にすることができます。さらに、PVDチャンバーは、蒸着に不可欠な反応ガスの導入を可能にするカスタムメイドのガスパネルを使用しています。さらに、このパネルは反応室内の不活性ガスと反応性ガスの混合物を制御することができます。応用材料EnduraのためのPVDの部屋は最先端の装置性能を可能にするプロセス制御および理解を提供します。このチャンバーは、パワーデバイス、メモリデバイス、およびオプトエレクトロニクスデバイス業界のアプリケーションに幅広い材料およびプロセス条件を使用することもできます。Endura 用PVDチャンバーは、高度なPVDアプリケーションに最適なツールであり、精密な蒸着パラメータと温度制御を必要とする薄膜の蒸着を可能にします。このチャンバーは、精度、均一性、および表面の完全性の利点と、独自の設計の堅牢性を兼ね備えています。