中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer #135489 を販売中
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販売された
ID: 135489
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1999
CVD system, 8"
Process: HT NIT
Wafer shape: JMF
Wafer size: 8"
Producer type: long mainframe
SMIF: manual
System placement: through the wall
Chambers:
Chamber A: HT NIT
Chamber B: HT NIT
Chamber A:
Heater: ceramic
Clean method: remote plasma
Frequency: dual HF and LF
Manometer: dual 10 / 100 Torr
Chamber B:
Heater: ceramic
Clean method: remote plasma
Frequency: dual HF and LF
Manometer: dual 10 / 100 Torr
Beat exchanger: Steelhead 0
HF generators:
Chamber A: V-(RFG2000-2V)
Chamber B: V-(RFG2000-2V)
LF generators:
Chamber A: V-(DPG-10)
Chamber B: V-(DPG-10)
Mainframe:
Type: Producer long
SMIF: manual
Electrical requirements:
Line frequency: 50 / 60 Hz
Line voltage: 200 / 208V
Line amperage: 400A
System monitor: 1st and 2nd monitors
System placement: through-the-wall
Gas delivery:
MFC type: STEC 4400MC
Valves: FUJIKIN 5 Ra Max
Filters: MOTT
Transducer: MKS without display
Regulators: VERIFLO
Chamber A gases:
N2O, 500 sccm
N20, 5 slm
NH3, 300 sccm
N2, 10 slm
SiH4, 500 sccm
SiH4, 1 slm
Ar, 5 slm
NF3, 3 slm
Chamber B gases:
N2O, 500 sccm
N20, 5 slm
NH3, 300 sccm
N2, 10 slm
SiH4, 500 sccm
SiH4, 1 slm
Ar, 5 slm
NF3, 3 slm
Can be inspected
1999 vintage.
AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Producerは、基板の性能と耐久性を向上させるために薄膜コーティングの成膜用に設計された化学蒸着（CVD）炉です。このCVD炉には革新的なベローズスタイルの垂直電極が搭載されており、半導体材料から金属まで幅広い基板に薄膜コーティングを正確かつ一貫した成膜が可能です。また、垂直電極構成により、成膜の均一性が向上し、膜厚制御が向上し、歩留まりが向上します。AMAT Producerには2メートルツインチャンバーが装備されており、両面ウェーハの生産を容易にし、最大4つの厚さのウェーハを同時に処理することができます。また、このCVD反応チャンバーには、従来の薄膜製造方法のほんの一部で原子層成膜（ALD）またはMIPT-ALDコーティングを生成する新しいPVDプロセスである急速な断熱装置が使用されています。応用材料応用材料生産者は、多様性と柔軟性を提供し、ユーザーが幅広い膜厚でさまざまな基板を処理することができます。また、単一のウェーハとウェーハスタッキングの複数の再コーティングを可能にし、最適なスループットを実現します。効率的なウェーハ位置決めシステムとマルチガス混合機能により、蒸着の均一性と再現性がさらに向上します。さらに、CVD反応チャンバは、均一な温度分布、圧力制御、および優れたアップタイムの信頼性を利用することにより、再ツーリングなしで再現可能なプロセス結果を保証します。AMAT/APPLIED MATERIALS Producerは直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）を備えており、ユーザーは蒸着プロセスとユニットの状態をリアルタイムで監視できます。このCVDリアクターには直感的なリモートコントロールマシンもあり、ユーザーは遠隔地からツールの操作を監視および制御することができます。さらに、診断ツールはプロセスと資産の互換性を確保するために含まれていますが、内蔵の安全機能は予期しない条件が発生した場合のモデルの動作の完全性を保護します。要約すると、AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Producer CVD reactorは、基板性能と耐久性を向上させるために設計された高度で高性能な化学成膜装置です。このCVDリアクターは、堅牢な技術と直感的な制御を備えており、基板堆積のための信頼性が高く効率的なソリューションです。汎用性と柔軟性に優れた設計、優れたアップタイムの信頼性、高度なGUIにより、AMAT Producerはユーザーにダイナミックなマーケットプレイスでの柔軟性を提供します。
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