中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE #9088236 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SEは、シリコンエピタキシー用に設計された垂直シングルウェーハリアクター（VSWR）です。この装置の起源は、40年近くに及ぶAMATの専門知識、数多くの顧客からのフィードバック、および広範な材料工学の結果です。AMAT Producer SEは、急速冷却から低温アプリケーションまで、正確な温度制御を可能にする革新的な熱管理装置を備えています。高温垂直サセプターを使用してプロセスの均一性を確保し、基板の均一性と信頼性の高い結果を保証します。この原子炉は、業界ではCVD （in-situ chemical vapor deposition）システムと呼ばれています。つまり、エピタキシャルシリコンを処理中のウェーハに直接堆積させることを意味します。密閉されたプロセスは、チャンバー内で密閉されているため、粒子汚染がありません。このハイテク炉は低コストかつ低メンテナンスで設計されており、研究から本格的な生産まで、バルクプロセスのニーズに最適なソリューションです。FinFETや3D NAND技術の需要が高まっているほか、オプトエレクトロニクス、MEMS、高出力シリコン超硬デバイスなど、幅広い用途で使用できます。APPLIED MATERIALS Producer SEの中核を成膜中の各ウェーハのリアルタイムプロセスモニタリングとマッピングで複雑なレシピプログラミングが可能な高度な制御ユニットです。このオンチャンバー、リアルタイムフィードバック制御マシンは、優れたプロセス性能と反復可能な結果を保証するのに役立ちます。さらに、装置は処理されるウェーハの配列全体にわたって、カバレッジと厚さの両方の高い均一性をもたらします。生産者SEは完全なウェハツーウェハツールとして出荷します。これは、基板やウエハハンドリングなど、原子炉を動作させるために必要なすべてのコンポーネントがパッケージに含まれていることを意味します。アセット全体の長さは8フィート未満で、ラボや製造環境に最適なソリューションです。モジュラー設計により、あらゆるタイプの部屋に簡単に収まり、スペースを節約し、設置を高速化できます。全体として、AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SEは、半導体業界の生産ニーズのスケールアップに適した、効果的で適応可能なシングルウェーハCVDモデルです。優れた温度制御、正確なプログラミング、リアルタイムプロセスモニタリングにより、この原子炉は毎回優れた、完全に再現可能な結果を提供します。