中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer SE SACVD HARP #9282238 を販売中

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ID: 9282238
ウェーハサイズ: 12"
SACVD System, 12" Chamber A and B: Chamber type: SACVD, Oxide BPSG Gas configuration (SCCM): MFC O2 (30000) TEB (1000) TEOS (4000) TEPO (500) NF3 (5000) N2 (5000) AR (5000) O3 (30000) AR (5000) N2-Carrier (30000) He-Carrier (30000) RF RPS: 400 kHz Maximum: 10 kW Does not include Hard Disk Drive (HDD).
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer SE SACVD HARPは特殊な低圧生産炉です。原子炉は主に単層カーボンナノチューブ(SWNT)の形成に使用される。これは、従来の化学蒸着(CVD)リアクターよりも大きな利点を提供し、より速い成長率とSWNTのより狭い直径分布を提供します。原子炉は、作業ゾーン、種子ゾーン、陽極ゾーンの3つのゾーンを持つ石英管で構成されています。水晶管はサンプルの酸化を防ぐために窒素ガスと不活性な環境で保持されます。種子ゾーンでは、SWNTの成長のために種子が形成される。シードゾーンは他のゾーンよりも低い圧力で制御されます。これにより、プロセスの最初の部分で種子が形成されます。ワーキングゾーンは反応の主要部位であり、最高温度と圧力にさらされます。このゾーンでは、ナノチューブは触媒反応の存在下で成長します。アノードゾーンでは、リアクタントの一部が蒸発層として導入されます。この層はナノチューブの形成に不可欠である。完全なプロセス制御を提供するために、AMAT Producer SE SACVD HARPは高度な温度制御装置を備えています。これにより、プロセスの加熱および冷却段階を正確に制御できます。また、洗練された発電システムを備えており、反応に使用される反応剤の量を正確に制御できます。リアクタのソフトウェアインターフェイスには、直感的なユーザーガイダンスユニットが含まれています。これは、マシンのセットアップとメンテナンスに役立ちます。強力なグラフィカルビジュアライゼーションツールにより、ユーザーは反応プロセスの進捗状況を追跡することもできます。APPLIED MATERIALS Producer SE SACVD HARPは、従来のCVDリアクタよりも幅広い利点を提供します。これは、ナノチューブとより狭い直径分布のためのより高い成長率を提供します。温度制御ツールと発電機アセットによって提供される精密な制御により、反応が実行されるたびにナノチューブの信頼性の高い成長が保証されます。ユーザーガイダンスモデルとグラフィカルビジュアライゼーションツールは、反応プロセスのセットアップと監視を容易にするのに役立ちます。全体として、生産者SE SACVD HARPは、SWNTを生産しようとしている人々のための効率的で信頼性の高い原子炉です。
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