中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer S #9291526 を販売中

ID: 9291526
ヴィンテージ: 2005
CVD System, 8" (2) PECVD SiN PECVD TEOS (3) Twin chambers Wafer shape: SNNF No SMIF interface Chamber: A twin: PE OX SIN ARC APF B twin: PE OX TEOS SIN ARC C twin: PE OX SIN ARC APF Chamber A: Single frequency Manometer: 10/100 Torr Clean type (RPC): ASTEX No DPA Chamber B: Single frequency Manometer: 10/100 Torr Clean type (RPC): ASTEX No DPA Chamber C: Single frequency Manometer: 10/100 Torr Clean type (RPC): ASTEX No DPA System monitors: Through the wall Mainframe Mainframe type: Shrinkage Robot type: Dual VHP Load cassette: Manual (2) cassettes No SMIF VME Racks: SBC VGA MEI1 MEI2 I/O Expan Monitor Floppy Disk Drive (FDD) No Hard Disk Drive (HDD) Gas delivery: MFC Type: AERA D980 / BROOKS 6256S FUJIKIN 5 Ra Max valves Transducer: MKS With display Regulators: PARKER Single Line Drop (SLD) SLD Gas line feeds: Top feed Gas pallet: Chamber A: Make / Model / Size / Gas BROOKS / 6256s / 2 SLPM / O2 AERA / FC-D980C / 1 SLM / SiF4 BROOKS / 6256s / 10 SLPM / N2O BROOKS / 6256s / 400 SCCM / NH3 BROOKS / 6256s / 10 SLPM / N2 BROOKS / 6256s / 500 SCCM / SH4 BROOKS / 6256s / 2 SLPM / (CH3)3SiH BROOKS / 6256s / 3 SLPM / He BROOKS / 6256s / 3 SLPM / NF3 BROOKS / 6256s / 5 SLPM / Ar Chamber B: AERA / FC-D981C / 20 SLM / N2O BROOKS / 6256s / 500 SCCM / N2O BROOKS / 6256s / 5 SLPM / O2 BROOKS / 6256s / 200 SCCM / SIF4 MYKROLIS / FC-2902MEP-T / 500 SCCM / SH4 BROOKS / 6256s / 10 SLPM / N2 BROOKS / 6256s / 5 SLPM / He AERA / FC-D981C / 400 SCCM / NH3 BROOKS / 6256s / 3 SLPM / NF3 BROOKS / 6256s / 5 SLPM / Ar HORIBA / 4 g/min / TEOS Chamber C: BROOKS / 6256s / 2 SLPM / O2 BROOKS / 6256s / 200 SCCM / SiF4 AERA / FC-D980C / 20SLM / N2O BROOKS / 6256s / 400 SCCM / NH3 BROOKS / 6256s / 10 SLPM / N2 BROOKS / 6256s / 500 SCCM / SH4 BROOKS / 6256s / 2 SLPM / (CH3)3SiH BROOKS / 6256s / 3 SLPM / He BROOKS / 6256s / 2 SLPM / NF3 BROOKS / 6256s / 5 SLPM / Ar Electrical requirements: Line frequency: 50/60 Hz Line voltage: 200/208 V Line amperage: 240 A 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer Sは、集積回路やその他の半導体部品の製造に使用される先進的なプロセスチャンバー装置です。これは、高温化学蒸着(CVD)炉であり、組み込み電子機器の大量生産を可能にします。AMAT PRODUCERSは、CVD、原子層蒸着(ALD)、物理蒸着(PVD)など、さまざまな後処理アプリケーションに適した多機能システムです。アプライドマテリアルズPRODUCER-Sは、ポリマー、酸化物、金属の堆積に理想的な環境を作り出す対称的なセラミックチャンバー設計を採用しています。それは窒素または酸素の環境の1000°Cまで温度で作動させることができ、部屋は均一なフィルム厚さおよび熱制御のために設計されています。このチャンバーには、堆積するフィルムの品質と一貫性を維持するように設計された統合マイクロ波プラズマ源もあります。AMAT Producer Sには、ロボット化されたエンドエフェクターユニットと、必要なプロセスに正確にダイヤルインできるガスコントロールのコレクションが装備されています。光放射分光計(OES)を含む複数のin-situ診断機能は、材料沈着を分析し、さまざまなプロセスでのフィルム性能を最適化します。角度付き基板ヒーターの追加オプションを利用して、より均一なフィルムを容易にすることができます。すべてのコンポーネントは単一のエンクロージャに収納されており、モジュール設計によりアクセスでき、迅速かつ効率的なメンテナンスが可能です。このマシンには直感的なソフトウェアとユーザーフレンドリーな機能も装備されています。リアルタイムのプロセスデータ、予測モデリング、プロセス最適化機能へのアクセスを容易にします。動作パラメータは、所望の結果を得るために迅速に変更および調整することができます。また、統合されたソフトウェアによりリモートアクセスが可能になり、柔軟性と監視機能が向上します。AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER-Sは堅牢で高性能なCVDツールで、さまざまな後処理アプリケーションに優れた品質と高スループットを提供します。その対称性の高いセラミックチャンバー設計により、ポリマー、酸化物、金属の均一な蒸着が可能になり、高温の化学蒸着プロセスの制御環境を提供します。改善されたガス混合機能と複数のin-situ診断により、材料の蒸着が一貫しており、良質であることが保証され、スクラップ損失を最小限に抑えることができます。モジュラー設計と直感的なソフトウェアはリアルタイム監視も可能で、集積回路製造に最適です。
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