中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer S #9003816 を販売中
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販売された
ID: 9003816
System, 12"
Chamber A Twin BPSG
Chamber B Twin BPSG
Chamber C Twin BPSG
Wafer shape: SNNF
SMIF interface: no
Chamber A:
Frequency: None
Manometer: 20/1000 Torr
Clean type (rpc): Astex
Dpa: No
Chamber B:
Frequency: None
Manometer: 20/1000 Torr
Clean type (rpc): Astex
Dpa: No
Chamber C:
Frequency: None
Manometer: 20/1000 Torr
Clean type (rpc): Astex
Dpa: No
Electrical requirements:
Line Frequency: 60 Hz
Line Voltage: 200/208 V
Line Amperage: 240 A
Facility ups interface : Yes
System monitor:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Standalone
3rd Monitor: None
Mainframe:
Mainframe Type: Shrinkage
Robot Type: VHP dual
Loadlock Cassette: Manual 2 cassette
SMIF: No
SMIF Robot: NA
Ozone generator:
Chamber A: AX8400
Chamber B: AX8406B
Chamber C: AX8406B
Dry pumps:
Chamber A: -
Chamber B: -
Chamber C: -
Loadlock: IPX100
VME rack:
SBC: Yes
VGA: Yes
MEI #1: Yes
MEI #2: Yes
I/O EXPAN.: Yes
Monitor Select: Yes
Floppy: Yes
HDD: Yes
Gas delivery:
MFC Type: STEC 410A (LFM), Unit C8161
Valves: Fujikin 5 Ra max
Filters: Millipore
Transducers: MKS without display
Regulators: Parker
Single Line Drop (SLD): No
SLD Gas Lines Feed: Top feed
System Cabinet Exhaust: Top
Gas pallet configuration:
CH.A SIZE MODEL
O2 30 SLM UFC 8161
NF3 5 SLM UFC 8161
AR 5 SLM UFC 8161
HE 30 SLM UFC 8161
N2 30 SLM UFC 8161
TEOS 7000 LF-410A-EVD
TEB 1500 LF-310A-EVD
TEPO 500 LF-310A-EVD
CH.B SIZE MODEL
O2 30 SLM UFC 8161
NF3 5 SLM UFC 8161
AR 5 SLM UFC 8161
HE 30 SLM UFC 8161
N2 30 SLM UFC 8161
TEOS 7000 LF-410A-EVD
TEB 1500 LF-310A-EVD
TEPO 500 LF-310A-EVD
CH.C SIZE MODEL
O2 30 SLM UFC 8161
NF3 5 SLM UFC 8161
AR 5 SLM UFC 8161
HE 30 SLM UFC 8161
N2 30 SLM UFC 8161
TEOS 7000 LF-410A-EVD
TEB 1500 LF-310A-EVD
TEPO 500 LF-310A-EVD
Includes:
(2) Ceramic Heater
(2) Ceramic Heater
(2) Ceramic Heater
Buffer Chamber, Chamber A
EFEM
(3) Cermic Liner, NF3 Gas Line
(1) Signal Cable, Exhase flange, Photo helic
Monitor Panel
(2) RPS Ass'y
(2) RPS Ass'y
(2) RPS Ass'y
Load Lock Pump
(6) AL Pumping Ring, Ceramic Pumping Ring
Monitor
Monitor
Chamber B
Chamber C
Temp Controller
(6) AL Shower Head, AL Blocker Plate
(6) AL Lid Ass'y
(6) Ceramic Pumping Ring
(3) AL Lid Block
(6) Top Ceramic Ring
Ch C Foreline, Mux Controller
Producer M,RF AC
O3 Cabinet
AC Rack
A-Chamber Cover
B-Chamber Cover
2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer Sは、工業用グレードの化学蒸着（CVD）炉です。直径200mmまでのウェーハ/基板に高性能の薄膜を堆積するように設計されています。これは、密閉されたチャンバーと、前駆体が非熱気圧プラズマで反応するプロセスソースの配列で構成されています。このプラズマは、無線周波数ADT （Atmospheric Direct-current）技術によって作成され、前駆体をより小さな破片に分解して表面相互作用を高め、ウェーハの表面に均等に分布させることができます。このプラズマは、CVDの高品質な膜の蒸着に必要な均一なプロセス温度を提供するためにも不可欠です。プロセスソースには、高周波ハロゲンランプと石英加熱素子も含まれており、チャンバーの内部に均一な温度分布を確保します。均一な温度分布により、薄膜の製造における信頼性と再現性が保証されます。これは、高いフィルム品質が必要な半導体やナノテクノロジーなどの分野で特に重要です。その均一な温度と信頼性と再現性の高い薄膜堆積物に加えて、AMAT PRODUCERSには他の利点があります。例えば、プラズマの熱源はプロセスを中断することなく変更することができ、ウェーハへの熱効果を最小限に抑えた高スループットを実現します。また、最大30分の高速サイクルタイム、30ウェーハの高いウェーハ積載能力、および低コストの所有権を備えています。最後に、APPLIED MATERIALS PRODUCER-Sには直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）が搭載されているため、操作とメンテナンスが簡単でユーザーフレンドリーです。このGUIは、さまざまなアプリケーション分野で成功を収めるための効率的なレシピと、真空レベルや蒸着速度などのハードウェアおよびプロセスパラメータの監視システムでも最適化されています。
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