中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9240095 を販売中
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ID: 9240095
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2004
CVD System, 8"
(3) Twin chambers
Platform: Producer S
Wafer shape: SNNF
Load lock:
Cassette type, 8"
Fast vent option
Mainframe:
Buffer robot type: VHP
FI Robot type: Manual
Buffer robot blade
Chamber A: Producer APF
Chamber B: Producer DARC
Chamber C: Producer SAUSG
(2) Heater exchangers: Steelhead 0
Chiller MX-500
O3 Rack
Front end type: Manual
Front end robot: PRI BROOKS ABM407
Buffer robot: VHP
Transfer pump: IPX Pump
Chamber slit valve / LL Door: VAT
L/L Gauge
Hard disk
Floppy disk: 1.44 M
Chamber A: (APF)
Chamber parts:
Gas feedthrough assy
Gas box
Face plate
Heater / TC: OEM
Pressure gauge: MKS 20 Torr / MKS 100 Torr
RF Power:
RF Generator: ADVANCED ENERGY 2000-2 V
Match type: ADVANCED ENERGY Fixed match
Gas panel: C3H6, Ar, He, O2
Vacuum system:
Throttle valve: MKS 253B-24627
ISO Valve: MKS
Chamber B: (DARC)
Chamber parts:
Gas feedthrough assy
Gas box
Face plate
Heater / TC: OEM
Pressure gauge: MKS 100 Torr / MKS 10 Torr
RF Power:
RF Generator: ADVANCED ENERGY 2000 - 2 V
Match type: ADVANCED ENERGY Fixed match
RPS Type: MKS ASTEX
Gas panel: CO2, N2O, He, NF3, SIH4
Vacuum system:
Throttle valve: MKS 253B-24627
ISO Valve: MKS
Chamber C: (SAUSG)
Chamber parts:
Gas feedthrough assy
Gas box
Face plate
Heater / TC: OEM
Pressure gauge: MKS 20 Torr / MKS 1000 Torr
RF Power:
No RF generator
No match
RPS Type: (MKS ASTEX)
Gas panel: O2, NF3, Ar, He, O3, TEOS
Vacuum system:
Throttle valve
ISO Valve
Light tower: RYGB
Power: 208 V, 50/60 Hz
Full load current: 240 A
CE Marked
2004 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer III Reactorは、高温で基板を製造するように設計された製造機械です。半導体、硬質材料、トライボロジー材料の加工を目的とした先進原子炉です。この原子炉は主に半導体研究、生産、自動化試験に使用されています。炉は別の温度で作動する3つの部屋から成っています：第1部屋は2000°Cまで達するように設計されています、第2部屋は1000°Cまで達するようにプログラムされ、第3部屋は500°Cまで達することができます。原子炉には、チャンバー内の圧力を調整するゲートバルブも装備されています。Producers IIIリアクターには、3つのチャンバーすべてを同時に冷却する高度な冷却装置が装備されています。この冷却システムは、原子炉の起動にかかる時間を短縮し、熱暴走の発生を防ぐように設計されています。生産者IIIリアクターは、フェイルセーフユニット、複数の安全インターロック、緊急停止などの高度な安全機能を備えています。また、原子炉には静電気封じ込め装置があり、外部環境から原子炉を隔離しています。また、材料の安定した均一なフィルムを基板に噴霧するID AMAT独自の蒸着ツールを使用して、材料を効率的に処理するように設計されています。この堆積資産は、所望の温度に迅速かつ効率的に到達することができます。この高度な原子炉は、窒化、酸化、急速熱処理、堆積などの幅広いプロセスを実行することができます。AMAT Producer III Reactorは、半導体産業で基板を製造するために使用される多目的で効率的なツールです。
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