中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9091079 を販売中
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ID: 9091079
SACVD System, 8"
(2) Twin chambers, RPC clean
Platform: Split
SACVD: TEOS, TEB, TEPO process SiO2, PSG, BPSG
RPC Chamber Clean: MKS ASTRON-2L
4 color signal tower: (Red-Yellow-Green-Blue)
Mainframe Seriplex BD: 0090-00475 Rev-P1
MF Interface BD: 0100-00752 Rev-003
Cassette Loader:
PRI Robot: Front End Manual Type 200mm: ATM407B-1-S Brooks Auto
PRI Robot Controller: ESC-200-OTF-110: CTL-27900
Filter Assy: MAC10ULPA 11057002
Load-Lock Chamber:
Index Motor Driver: 5-Phase UDK5128NW2
Left Loadlock: 6 Slot / 200mm
Right Loadlock: 6 Slot / 200mm
Left LL Pressure Gauge: 901P-41-0030
Right LL Pressure Gauge: 901P-41-0030
Pumping Line Pressure Gauge: EDWARD APG-L-NW15
Cassette Door Left: VAT 0750X-UE24-AAL7 / 1522 / A-646946
Cassette Door Right: VAT 0750X-UE24-AAL7 / 1522 / A-646946
Wafer Position Sensor: Keyence PS-55
Buffer Chamber:
VHP Robot: VHP Dual Blade Type 200mm
VHP Robot Driver: 0190-02472 Rev-001
IPX-100 Pump: missing
Purge/Vent MFC: FC-2902 5000 sccm
Pressure Gauge: 275 Mini-Convectron Granville-Phillips
Chamber A:
Chamber Set Interface 0015-00421 Rev-P1
Chamber Seriplex BD 0190-35652 Rev-P1
Heater Type HEATER,CERAMIC,NGK,DIMPLED,COMMON 200 MM HA12(Base: 0040-61269)
Heater Material ALN Ceramic
Heater Lift Motor Driver 5 Phase UDK5214NW
Lid Cover Switch ALCO PUSH Button
Heat Exchanger Water Flow Switch Proteus 9AMHXCHP2 / 0015-00649 Rev-001
RF/ OZONE Generator ASTEX 8403A
RPS MKS ASTRON-2L
Gas Panel Configuration:
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEB 3030-09436 LFM LF-410A-EVD TEB 0.5g/MIN F.S.
TEPO 3030-07719 LFM LF-310A-EVD TEPO .25G/MIN F.S.
TEOS 3030-07663 LFM LF-410A-EVD TEOS 4G/MIN F.S.
TEB Injection Valve 0190-36236 VALVE, INJECTION 208V TEB 120C STEC
TEPO/TEOS Injection Valve 0190-36237 VALVE, INJ. 208V TEPO/TEOS 150C STEC
Final Filter GLFPF6101VXM4AM
In Line Gas Filter WG3NS6RR2 / WFRGD3NF-30 3.31"LG
Transducer 852B-13384 : 12ea
LDM LDM-B12PA2CC1 : 12ea
NF3 Interlock Gauge 41A12DCA2BA050 / 100 Torr
Gas Panel I/O Dist GPLI 0100-00259 P4
Gas Panel Seriplex BD 0190-35653
Chamber B:
Chamber Set Interface 0015-00421 Rev-P1
Chamber Seriplex BD 0190-35650 Rev-P1
Heater Type HEATER,CERAMIC,NGK,DIMPLED,COMMON 200 MM HA12(Base: 0040-61269)
Heater Material ALN Ceramic
Heater Lift Motor Driver 5 Phase UDK5214NW
Lid Cover Switch ALCO PUSH Button
Heat Exchanger Water Flow Switch Proteus 9AMHXCHP2 / 0015-00649 Rev-001
RF/ OZONE Generator ASTEX 8403A
RPS MKS ASTRON-2L
Gas Panel Configuration:
O2 20L UNIT
NF3 3L UNIT
Ar 5L UNIT
He 10L UNIT
N2 20L UNIT
TEB 3030-09436 LFM LF-410A-EVD TEB 0.5g/MIN F.S.
TEPO 3030-07719 LFM LF-310A-EVD TEPO .25G/MIN F.S.
TEOS 3030-07663 LFM LF-410A-EVD TEOS 4G/MIN F.S.
TEB Injection Valve 0190-36236 VALVE, INJECTION 208V TEB 120C STEC
TEPO/TEOS Injection Valve 0190-36237 VALVE, INJ. 208V TEPO/TEOS 150C STEC
Final Filter GLFPF6101VXM4AM
In Line Gas Filter WG3NS6RR2 / WFRGD3NF-30 3.31"LG
Transducer 852B-13384 : 12ea
LDM LDM-B12PA2CC1 : 12ea
NF3 Interlock Gauge 41A12DCA2BA050 / 100 Torr
Gas Panel I/O Dist GPLI 0100-00259 P4
Gas Panel Seriplex BD 0190-35762
VME Controller:
#1 SBC BD V452 0090-76133 Rev A
#2 Radisys BD Radisys AMAT P133 0660-01857
#3 Unused -
#4 Unused -
#5 MEI-2 BD 0190-00387 A010-008 Rev 5
#6 Unused -
#7 MEI-1 BD 0190-00387 A010-008 Rev 5
#8 Unused -
#9 I/O Expansion BD 0090-76040
NT Hard Disk Seagate ST34520N
CD-ROM Use
NT Floppy Disk 3.5"
Legacy Hard Disk 0190-00405
Legacy Floppy Disk 3.5" SCSI FD235HF C700-U 193077C7-00
VME P2 Distribution BD 0100-00430
Loadlock Left Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Loadlock Right Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#A1 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#A2 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#B1 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Ch#B2 Slit Valve VAT 0300X-CA24-All1/0302 A-23269
Active Wafer Sensor Keyence PZ2-41
Latest Software Version B3512
Currently de-installed.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer IIIは、半導体生産および購買に使用される先進的な生産炉です。その高度な機能により、利用可能な最も信頼性が高く効率的な生産炉の1つになります。AMAT Producer IIIには、RFドライブ、周波数発生器、高電圧電源、レーザースキャナ、低電圧電源が含まれています。これらのすべてのコンポーネントが連携して生産プロセスを最適化し、再現性と生産性を向上させます。RFドライブは幅広い工程で高い蒸着速度を実現し、周波数発生器は原子炉に供給される電圧と電力を制御します。レーザースキャナーは、ウェーハに堆積する材料の量を調整します。アプライドマテリアルズプロデューサーIIIは、ウェーハ上の材料の正しいレベルを維持するために動的に調整されるアクティブなフロー制御システムで、材料成膜の均一性を提供します。このシステムはまた、蒸着およびエッチング処理が再現可能であることを保証します。生産者IIIはさらに、より良いプロセス制御と製品品質の向上を可能にする圧力監視システムを含みます。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer IIIは、ハイスループット生産および高温プロセス向けに設計されています。そのサセプターは、汚染を低減し、迅速なウォームアップ時間を可能にする特別なデザインを持っています。サセプターはまた、ウェーハ上の材料のより大きな均一性を可能にします。AMAT Producer IIIは、モノリシックウエハ、化合物半導体、さらには先進材料など、あらゆる材料の製造に最適です。水素からテトラフルオリドまで、さまざまなガスで動作できます。また、あらゆるタイプの半導体製品と互換性があるように設計されているため、生産者は顧客が必要とする材料を処理できることを知っています。APPLIED MATERIALS Producer IIIは、すべての業界標準に準拠しており、ユーザーの信頼性と一流のパフォーマンスを向上させます。これには、オペレータを保護し、あらゆるプロセスが可能な限り効率的であることを保証する包括的な安全機能が含まれています。その特徴はまた製造業者にすべての生産条件を満たす機能を提供します。Producer IIIは、信頼性が高く効率的な生産炉であり、ユーザーのニーズを満たすための生産精度と再現性を提供します。様々な材料を加工する能力と柔軟で汎用性の高い設計により、あらゆるタイプの半導体メーカーの要求に確実に応えます。最高レベルの性能と信頼性を誇る生産炉をお探しの際には、AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER IIIが最適です。
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