中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #9070340 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer IIIリアクターは、半導体、その他のデバイス、製造に使用するために設計された化学蒸着（CVD）システムの一種です。様々な有機、金属、セラミック前駆体を用いて基板上に薄膜堆積層を生成するのに最適です。AMAT Producer IIIは垂直リフトサセプタプラットフォームで設計されており、最大200mmまでの複数のプロセス構成と基板を可能にします。パワフルなラピッドスタートヒーターで基板加熱を実現。原子炉は1x10-6 Torrのベース圧力で設計されており、最適な成長率のために5 Torrまでの高圧を達成することができます。内蔵のデジタルマイクロ波エネルギー源も含まれています。このデュアル周波数ソースは、正確なドーパント制御、より大きな表面積のカバレッジ、および得られたフィルムの結晶品質の向上を可能にする柔軟な電源設定を生成することができます。デジタルソースは、フィードスルー接続の感受性を低減し、高効率のフィルム成長を可能にするように設計されています。APPLIED MATERIALS Producer IIIは、均一な蒸着速度と膜厚を確保するために、45MHzの信号と270kHzのプラズマ源を供給できるデュアル周波数パルスソースで設計されています。プロセスオートメーションの面では、Producer IIIには専用ソフトウェアを備えたEvent Control System （ECS）が含まれており、ユーザーは自動化されたプロセスシーケンスを設計および統合できます。ECSは、温度、圧力、分離レベルを監視し、レシピの実行、ステップバイステップのプロセス制御、レシピストレージなどの制御機能とロギング機能を提供します。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer IIIには、安全なウェハローディングとアンロードのための傾斜炉も含まれています。原子炉台のアルモレールCAEは、サンプル移動に便利で、さまざまな基板サイズに合わせて調整可能です。最大限の安全性を確保するために、AMAT Producer IIIにはさまざまなシステム内セーフガードが装備されています。これらには、圧力検出、排気、チョークバルブ、モータ駆動システム、窒素およびアルゴンパージシステムが含まれます。これらのシステムは、最適な労働条件を維持し、オペレータと周辺環境の両方を保護するように設計されています。