中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #149570 を販売中
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販売された
ID: 149570
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2002
CVD system, 12"
Process: BPSG
Wafer shape: SNNF
Chamber A: SACVD-TWIN
Chamber B: SACVD-TWIN
Line voltage: 200 / 208 VAC
Line frequency: 60 Hz
Phase: 3 phase
AC P/N: 0180-01905
EMO switch type: turn to release EMO
Smoke detector: no
Chamber A: BPSG
Controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Chamber set power supply: yes
Chamber set interconnect assembly: yes
GP SPX MUXADIO110: yes
GP interface BD: yes
Other controller:
WATLOW temperature controller: yes
Heater RF filter: yes
EV manifold: yes
Thermocouple: yes
5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes
Heater lift assembly:
Heater base: yes
Lead screw assembly: yes
Motor: yes
Heater lift bellows: yes
Lift pin assembly:
Lift pin assembly: yes
Lift ceramic ring: yes
Lift pin bellows: yes
Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS
Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes
Fore line assembly:
Throttle valve: yes
Isolation valve: yes
Pirani gauge: yes
Heating jackets: yes
RGA port NW25: yes
Fore lines: yes
Pressure gauge:
MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes
MKS 627A-12338, 20 torr: yes
MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes
Chamber B: BPSG
Controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Chamber set power supply: yes
Chamber set interconnect assembly: yes
GP SPX MUXADIO110: yes
GP interface BD: yes
Other controller:
WATLOW temperature controller: yes
Heater RF filter: yes
EV manifold: yes
Thermocouple: yes
5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes
Heater lift assembly:
Heater base: yes
Lead screw assembly: yes
Motor: yes
Heater lift bellows: yes
Lift pin assembly:
Lift pin assembly: yes
Lift ceramic ring: yes
Lift pin bellows: yes
Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS
Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes
Fore line assembly:
Isolation valve: yes
RGA port NW25: yes
Pressure gauge:
MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes
MKS 627A-12338, 20 torr: yes
MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes
Gas panel and pallet:
Mainframe type: Producer III 12"
Gas feed (top): yes
System cabinet exhaust (top): yes
MFC: Celerity UFC 8160 metal digital MFC's: yes
LFM:
STEC HORIBA LF-A410A-EVD 7.0: yes
STEC HORIBA LF-A410A-EVD 1.5: yes
STEC HORIBA LF-A310A-EVD 0.5: yes
Injection valve: STEC HORIBA: yes
Valve: FUJIKIN 5 RA max: yes
Filter:
MILLIPORE 5 RA: yes
MYCROLIS O3 GS line: yes
SLD (single line drop): no
SLD valve type: FUJIKIN diaphragm: yes
Veriflo 10 RA regulator: yes
MKS LDMB12PA2CC1 transducer with display: yes
Smoke detector photohelic: yes
Generic facilities / scrubber interface: yes
Facilities interlock indicator: no
Interface output (fault): yes
Display gas pallet: yes
Chamber A gas pallet: SA-BPSG
Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD
Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD
Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD
1: O3
2: O2, 30 slm
3: N2 purge
4: NF3, 5 slm
5: N2, 3 slm
6: AR, 10 slm
7:
8: N2, 30 slm
9: HE, 30 slm
10: N2 purge
Chamber B gas pallet: SA-BPSG
Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD
Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD
Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD
1: O3
2: O2, 30 slm
3: N2 purge
4: NF3, 5 slm
5: N2, 3 slm
6: AR, 10 slm
7:
8: N2, 30 slm
9: HE, 30 slm
10: N2 purge
System placement: stand alone
EV mainfold: yes
System controller:
Facilities UPS interface: yes
MF controllers:
Chamber set interface: yes
SPX MUXADIO110: yes
Maintenance switch: yes
MF DC power supply assembly: yes
VME rack:
1: SBC
15: serial / video
16, 17: HDD
19, 20: FDD
DVD: yes
FDD: yes
Load locks:
Load lock lift assembly:
Motor
Lead screw assembly
Bellows
Lid assembly:
Wafer sliding sensor
Lid cover
Fore line assembly:
Isolation valve
Fore lines
LL door assembly: VAT valve assembly
Slit valve assembly: slit valve with Kalrez seal
Transfer chamber (buffer):
Robot type: VHP dual
Wafer sensing type: wafer pocket sensor
EDWARDS IPX100 pump
Isolation valve
Pirani gauge
RGA port, NW25
Fore lines
Slit valve assembly:
Slit valve with Kalrez seal
Assembly
Signal lamp tower:
Tower locations: front and rear mounted
Lamp colors: red, amber, green blue
Number of lamps per tower: (4)
Fab interface: standard GEM interface
Factory interface:
Front end interface: 12" FI 2 load ports
Path through: yes
Robot type: NEWPORT KENSINGTON POD 1 and 2
Facility: mainframe gas lines
MF N2 regulation: regulated 80 PSI
Remote systems:
HX 300 W/C heat exchanger: yes
HX 300 chiller for ozonator: yes
System monitors:
Monitor type: VGA with light pen, through the wall
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer IIIは半導体プロセスの研究開発用に設計された原子炉装置です。AMAT Producer IIIは、優れたプロセス制御を提供しながら、高品質の処理結果を提供します。セットアップとメンテナンスが簡単に行えるように設計されており、ユーザーはプロセス間をすばやく移行できます。APPLIED MATERIALS Producer IIIは、エピタキシーからナノテクノロジーまで幅広い機能を備えた高精度システムです。広い温度範囲、高精度圧力制御、多段ポンピング、リアルタイムデータ取得などが特徴です。このユニットは、1100°Cまでの温度で高温蒸着およびエッチング処理を提供します。窒化ガリウム(GaN)やアルミニウムガリウム(AlGaAs)などの化合物半導体の製造に適しています。Producer IIIには、0。2nmの精度で膜厚を監視するための水晶マイクロバランス(QCM)が含まれています。これは、ナノメートル範囲の厚さのフィルムを正確に堆積させるのに役立ちます。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer IIIは、温度、圧力、総ガスフローなどのプロセスパラメータをリアルタイムで監視する機能を含む、さまざまな高度なプロセス制御機能を提供します。この機械には、生産を最適化するために各レベルの温度を監視する発熱レギュレータが含まれています。これにより、各プロセスサイクルで再現性と安定性を確保できます。AMAT Producer IIIの熱機能は、周囲圧力ドライエッチングにも適しています。これは、高温で材料を除去するためにRF電源を使用することを含み、アンダーエッチングなしで精密なエッチングプロファイルとプロファイルを可能にします。この装置は、制御された雰囲気の中で機能をアニールする機能や、選択的なエリアエッチング処理を実行する機能など、幅広いプロセスオプションを提供します。APPLIED MATERIALS Producer IIIは、さまざまなプロセス機能を提供する堅牢なツールで、複数の蒸着およびエッチングシステムに投資することなく、幅広いアプリケーションを探索できます。高精度、再現性、迅速なターンアラウンドタイムを提供するため、研究および半導体グレードの処理アプリケーションに最適です。
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