中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer III #149570 を販売中

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ID: 149570
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2002
CVD system, 12" Process: BPSG Wafer shape: SNNF Chamber A: SACVD-TWIN Chamber B: SACVD-TWIN Line voltage: 200 / 208 VAC Line frequency: 60 Hz Phase: 3 phase AC P/N: 0180-01905 EMO switch type: turn to release EMO Smoke detector: no Chamber A: BPSG Controllers: Chamber set interface: yes SPX MUXADIO110: yes Chamber set power supply: yes Chamber set interconnect assembly: yes GP SPX MUXADIO110: yes GP interface BD: yes Other controller: WATLOW temperature controller: yes Heater RF filter: yes EV manifold: yes Thermocouple: yes 5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes Heater lift assembly: Heater base: yes Lead screw assembly: yes Motor: yes Heater lift bellows: yes Lift pin assembly: Lift pin assembly: yes Lift ceramic ring: yes Lift pin bellows: yes Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes Fore line assembly: Throttle valve: yes Isolation valve: yes Pirani gauge: yes Heating jackets: yes RGA port NW25: yes Fore lines: yes Pressure gauge: MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes MKS 627A-12338, 20 torr: yes MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes Chamber B: BPSG Controllers: Chamber set interface: yes SPX MUXADIO110: yes Chamber set power supply: yes Chamber set interconnect assembly: yes GP SPX MUXADIO110: yes GP interface BD: yes Other controller: WATLOW temperature controller: yes Heater RF filter: yes EV manifold: yes Thermocouple: yes 5 phase lift driver UDK5214NW oriental motor: yes Heater lift assembly: Heater base: yes Lead screw assembly: yes Motor: yes Heater lift bellows: yes Lift pin assembly: Lift pin assembly: yes Lift ceramic ring: yes Lift pin bellows: yes Remote clean: ASTRONex FI80131 RPS Transformer: JEFFERSON ELECTRIC POWERFORMER outdoor N0101 type 3R U/L, CAT number: 211-0111-120: yes Fore line assembly: Isolation valve: yes RGA port NW25: yes Pressure gauge: MKS 629B13TBC, 1000 torr: yes MKS 627A-12338, 20 torr: yes MKS 51A13TCA2BA640 ATM switch: yes Gas panel and pallet: Mainframe type: Producer III 12" Gas feed (top): yes System cabinet exhaust (top): yes MFC: Celerity UFC 8160 metal digital MFC's: yes LFM: STEC HORIBA LF-A410A-EVD 7.0: yes STEC HORIBA LF-A410A-EVD 1.5: yes STEC HORIBA LF-A310A-EVD 0.5: yes Injection valve: STEC HORIBA: yes Valve: FUJIKIN 5 RA max: yes Filter: MILLIPORE 5 RA: yes MYCROLIS O3 GS line: yes SLD (single line drop): no SLD valve type: FUJIKIN diaphragm: yes Veriflo 10 RA regulator: yes MKS LDMB12PA2CC1 transducer with display: yes Smoke detector photohelic: yes Generic facilities / scrubber interface: yes Facilities interlock indicator: no Interface output (fault): yes Display gas pallet: yes Chamber A gas pallet: SA-BPSG Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD 1: O3 2: O2, 30 slm 3: N2 purge 4: NF3, 5 slm 5: N2, 3 slm 6: AR, 10 slm 7: 8: N2, 30 slm 9: HE, 30 slm 10: N2 purge Chamber B gas pallet: SA-BPSG Liquid 1: TEOS 7.0 G, LF410A-EVD Liquid 2: TEOS 0.5 G, LF310A-EVD Liquid 3: TEOS 1.5 G, LF410A-EVD 1: O3 2: O2, 30 slm 3: N2 purge 4: NF3, 5 slm 5: N2, 3 slm 6: AR, 10 slm 7: 8: N2, 30 slm 9: HE, 30 slm 10: N2 purge System placement: stand alone EV mainfold: yes System controller: Facilities UPS interface: yes MF controllers: Chamber set interface: yes SPX MUXADIO110: yes Maintenance switch: yes MF DC power supply assembly: yes VME rack: 1: SBC 15: serial / video 16, 17: HDD 19, 20: FDD DVD: yes FDD: yes Load locks: Load lock lift assembly: Motor Lead screw assembly Bellows Lid assembly: Wafer sliding sensor Lid cover Fore line assembly: Isolation valve Fore lines LL door assembly: VAT valve assembly Slit valve assembly: slit valve with Kalrez seal Transfer chamber (buffer): Robot type: VHP dual Wafer sensing type: wafer pocket sensor EDWARDS IPX100 pump Isolation valve Pirani gauge RGA port, NW25 Fore lines Slit valve assembly: Slit valve with Kalrez seal Assembly Signal lamp tower: Tower locations: front and rear mounted Lamp colors: red, amber, green blue Number of lamps per tower: (4) Fab interface: standard GEM interface Factory interface: Front end interface: 12" FI 2 load ports Path through: yes Robot type: NEWPORT KENSINGTON POD 1 and 2 Facility: mainframe gas lines MF N2 regulation: regulated 80 PSI Remote systems: HX 300 W/C heat exchanger: yes HX 300 chiller for ozonator: yes System monitors: Monitor type: VGA with light pen, through the wall 2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer IIIは半導体プロセスの研究開発用に設計された原子炉装置です。AMAT Producer IIIは、優れたプロセス制御を提供しながら、高品質の処理結果を提供します。セットアップとメンテナンスが簡単に行えるように設計されており、ユーザーはプロセス間をすばやく移行できます。APPLIED MATERIALS Producer IIIは、エピタキシーからナノテクノロジーまで幅広い機能を備えた高精度システムです。広い温度範囲、高精度圧力制御、多段ポンピング、リアルタイムデータ取得などが特徴です。このユニットは、1100°Cまでの温度で高温蒸着およびエッチング処理を提供します。窒化ガリウム(GaN)やアルミニウムガリウム(AlGaAs)などの化合物半導体の製造に適しています。Producer IIIには、0。2nmの精度で膜厚を監視するための水晶マイクロバランス(QCM)が含まれています。これは、ナノメートル範囲の厚さのフィルムを正確に堆積させるのに役立ちます。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer IIIは、温度、圧力、総ガスフローなどのプロセスパラメータをリアルタイムで監視する機能を含む、さまざまな高度なプロセス制御機能を提供します。この機械には、生産を最適化するために各レベルの温度を監視する発熱レギュレータが含まれています。これにより、各プロセスサイクルで再現性と安定性を確保できます。AMAT Producer IIIの熱機能は、周囲圧力ドライエッチングにも適しています。これは、高温で材料を除去するためにRF電源を使用することを含み、アンダーエッチングなしで精密なエッチングプロファイルとプロファイルを可能にします。この装置は、制御された雰囲気の中で機能をアニールする機能や、選択的なエリアエッチング処理を実行する機能など、幅広いプロセスオプションを提供します。APPLIED MATERIALS Producer IIIは、さまざまなプロセス機能を提供する堅牢なツールで、複数の蒸着およびエッチングシステムに投資することなく、幅広いアプリケーションを探索できます。高精度、再現性、迅速なターンアラウンドタイムを提供するため、研究および半導体グレードの処理アプリケーションに最適です。
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