中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT3 #293610775 を販売中

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ID: 293610775
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2015
PECVD System, 12" Process: TEOS (4) SELOP Load ports FOUP: (25) Wafers FX Robot 0200-08346 Robot blades 0090-04659 Load lock preheater 9992-00594 Slit valve door EBARA ESR 80WN MF Pump Laod lock pump: EPX 180 Twin dry vacuum pump (P/N: 3620-00517) 0190-37371 Diffuser KASHIYAMA SDE1203B Process pump Chamber: Type: PE Silane 0920-00139 RF Generator 0190-08677 RF Generator 0010-36734 Heater 9992-00594 Slit valve 0010-42371 RF Filter 0190-32100 Foreline TV 3870-06775 Foreline ISO 0040-53688 Gas box 0040-95475 Faceplate 0021-26544 Blocker (2) Pumping liner sides (P/N: 0200-02407; 0200-02408) 0200-06758 Liner ceramic top 0200-02973 Liner ceramic middle 0200-02974 Liner ceramic bottom 0021-27290 Ceramic isolator 0200-03314 Lift pins 0200-03312 Lift hoop (2) Sapcer sides (P/N: 0021-24181; 0021-24182) 0190-40602 RPS Gas box: Line / Gas / Size 3 / TEOS-1 / 7000 4 / TEOS-2 / 7000 6 / NF3 / 5000 8 / Ar / 10000 9 / He-TEOS / 15000 12 / O2 / 15000 18 / Purge02 / - 19 / Purge03 / - Liquid line temperature: TEOS-1, 2 Injection: 150° Heated line-2, 3, 4, 5, 6, 7: 120° Does not include Hard Disk Drive (HDD) Power supply: 208 VAC, 3-Phase 2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT3は、ユーザーの基板蒸着ニーズを満たすために十分に装備された先進的な熱化学蒸着リアクターです。この最先端の蒸着装置は、単結晶シリコン、ゲルマニウム、カーボン、ダイヤモンドなど、多くの材料の高品質なフィルムを製造することができます。精密なプロセス制御、多種多様な熱処理、厳密な均一性制御機能を備えています。AMAT Producer GT3は、直径10cm、高さ20cmのプロセスチャンバーで設計されており、カスタマイズ性が高く、幅広い用途に最適です。効率的な熱伝達装置は、一貫した基板温度を維持するのに役立ちます。この原子炉はまた、プログラミング可能なプロセスの範囲を提供し、ユーザーが究極の制御のために自分のフィルム堆積物を精製することができます。信頼性と再現性を確保するために、GT3は基板平面内にラピッド熱アニールシステムを組み込み、材料層間の不要なストレスを最小限に抑えます。この原子炉ユニットには、AMAT特許取得済みのアーク制御技術も搭載されており、一般的なCVDプロセスよりもさらに低い温度で優れた堆積を達成するように設計されています。APPLIED MATERIALS Producer GT3は、先進的な基板成膜に使用されるほか、パワー半導体デバイス開発用のIII-V材料など、幅広い材料に対応できるように設計されています。また、高性能材料の開発に欠かせない最先端の電極バイアス制御も搭載しています。GT3に存在するブロードイオンソースは、2つの異なる材料を同時に堆積させることができます。これは、2つの材料の組み合わせが優れた結果につながる可能性がある電気機器の製造に特に役立ちます。また、原子炉には加熱導体角度整流装置を搭載しており、基板の加熱インピーダンスを正確に操作することができます。Producer GT3は、信頼性の高い性能と数多くのカスタマイズ可能な機能を提供する高度な化学蒸着炉です。GT3は、幅広い熱処理、高度な電極、および厳密な均一性制御を備えており、高品質のフィルム成膜を求める人々にとって理想的な選択肢です。
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