中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9253662 を販売中

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ID: 9253662
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2015
PECVD System, 12" SiCoNi Clean chamber Other options and factory interface options: Additional loadport Infopad pos A or B Configurable colored lights Front facing intake plenum Upper E84 sensors and cables TIRIS With RF E99 Carrier ID Operator access switch Light curtain Remote options: Heat exchanger hoses and manifolds Facilities UPS interface Remote flat panel monitor on stand Through the wall flat panel monitor with keyboard Non standard request: Kit (2) Additional heat exchangers Manifolds H Chamber FI Removal Producer GT custom option Pre-align center single axis 5.4 FI New core Power vaccine AMK Handling items 2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GTは、半導体デバイスの加工に使用される真空蒸着装置です。この原子炉は、集積回路の様々な層のためのコンフォーマルで均一な薄膜の高密度アプリケーションを可能にします。これは、プロセスの均一性、生産性、歩留まりを向上させるように設計された完全に自動化されたツールです。AMAT Producer GTは高容量ロードロックシステムを搭載し、連続的な高真空運転を可能にします。このユニットはまた、より厳しいプロセスのために600°Cまでの温度範囲で高度な加熱技術を採用しています。さらに、原子炉には幅広い蒸着源と複数のプロセス室があります。これにより、複数の材料を同時に処理することができ、さまざまな堆積プロセスに効率的なプラットフォームを提供します。APPLIED MATERIALS Producer GTは、プロセス性能を向上させるためにいくつかの高度な機能を利用しています。これには、ウエハチャックの正確なモーションコントロールを容易にするピエゾモータが含まれますが、Advanced Plasma Control (APC)マシンは最適なプラズマ条件を保証します。さらに、この原子炉は可変圧力ツールを使用して、プロセスウィンドウ内の最適な範囲へのチャンバー圧力の調整を可能にします。Producer GTは、CMOSやMEMS、薄膜磁気・光学デバイス、その他の高度な蒸着プロセスなどの高密度アプリケーションに最適です。従来の成膜技術に比べてフィルムの均一性に優れ、垂直スケールの形状でも均一なフィルムを実現します。さらに、プラズマと最大600°Cの温度の組み合わせにより、ALD/CVDを含む高度な蒸着プロセスを可能にします。この資産は非常に険しく、取付け、維持することを容易にする軽く、密集した設計と。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GTは、半導体産業における高密度アプリケーションを可能にする先進的なプロセスツールです。厚さ、温度、圧力、均一性の厳密な制御が必要な蒸着プロセスに効果的なソリューションを提供します。このモデルは信頼性が高く、一貫した反復可能なプロセスを提供し、サイクル時間を短縮し、必要な正確な結果を高めるのに役立ちます。
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