中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9228298 を販売中
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ID: 9228298
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2009
CVD System, 12"
(3) Chambers
EFEM:
(4) Load ports
Load port type: TDK / TAS300 / G1
(2) EFEM Robots
ATM 0090-25011 Robot
KAWASAKI 3NX510B-D001 ATM Robot
TM and chamber robot
BROOKS 0190-25011 Vacuum robot
Chambers:
623B-24562 Throttle valve
APEX 3013 RF Generator
MKS ASTRON 2L Remote plasma system
Chamber A / B / C:
Gas line position / Process gas / MFC Size / Maker
1 / N2 Purge
2 / NF3 / 15000 sccm / Unit
3 / AR / 10000 sccm / Unit
4 / SIH4 / 1000 sccm / Unit
5 / N2 PURGE / - / -
6 / NH3 / 700 sccm / Unit
7 / N2 PURGE / 25000 sccm / Unit
8 / AR / 10000 sccm / Unit
10 / O2 / 10000 sccm / Unit
11 / N2O / 1000 sccm / Unit
12 / N2O / 15000 sccm / Unit
20 / TEOS / 7 g/min / HORIBA STEC
21 / AR / - / -
22 / N2 PURGE / 15000 sccm / Unit
Electrical requirements:
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 3-Phase, 4-Wires
Full load current: 240 Amp
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GTは、半導体製造に使用される次世代半導体炉です。この原子炉は、ハイエンドのリソグラフィ装置に適しており、最新の分散熱及び粒子制御を提供します。この原子炉は、低い欠陥と重要な機能精度を必要とするプロセスを最適化するように設計されています。AMAT Producer GTは、プロセスチャンバーとサブコンポーネントの2つの主要コンポーネントで構成されています。プロセスチャンバーには、ウエハカセットとオーバーヘッド光学系、マイクロ波、磁気共鳴、レーザー、イオンインプラントを備えたプロセスモジュールが含まれています。サブコンポーネントには、プラズマ源、ポンプ、チラー、ガス供給システム、電源、およびオートメーションが含まれます。このプラズマ源は、粒子が低いイオン密度のプラズマイオン源を生成するように設計されています。これは、EMIの乱れを防ぐために、RFシールドエンクロージャに囲まれています。ガス供給システムは、ガスの流れ、圧力、および温度を正確に制御するために使用されます。ガスは隔離され、漏出なしであるように設計されています。電源は特に低消費電力のために設計されており、すべてのプロセスモジュールに均等に電力を分配します。システムの電圧変動に対応し、プロセス破壊のリスクを低減できます。真空ポンプは、圧力ニーズの大きなバリエーションでも、正確な制御と信頼性の高い動作を可能にするターボ分子設計です。チラーは、信頼性の高い基板加工に必要な一貫した冷却を提供します。リアクターは、3Dスキャンイメージング技術を使用して設計され、リソグラフィに最適化されたプロセスパラメータ要件を作成します。このコンポーネントを組み合わせることで、22nmまでの高均一な機能処理が可能になり、欠陥が少なくなります。APPLIED MATERIALS Producer GTの自動化機能は、多品種少量半導体生産に最適なソリューションです。プログラマブルウェーハスケジューリングとプロセスパラメータの厳格な制御、プロセスレシピ管理により、マルチチャンバー処理のニーズに対応するように設計されています。自動化はまた、自己監視と自己調整機能を提供し、起動時間を短縮し、プラットフォームのアップタイムを増加させます。AMATは生産性と歩留まりを最大化するためにProducer GTを設計し、所有コストを最小限に抑えました。この原子炉は、半導体プロセス制御能力を最適化しようとするメーカーにとって理想的なソリューションです。
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