中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9227461 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT Reactorは、半導体デバイス製造用に設計された業界をリードする統合シングルウェーハ誘導結合プラズマ（ICP）装置です。ICPソースとエフュージョンセルを備えたこのコンパクトリアクターは、1時間あたり最大80ウェーハの高スループットと、堅牢で信頼性の高いデバイス構造を作成するための正確なプロセス制御を提供します。また、独自のウェハハンドリング技術であるAerosol Jet Coaterも搭載しており、ブランケットコーティングとエッチング速度に優れた一貫性と均質性を提供します。AMAT Producer GT ICPソースは、プロセス性能と歩留まり制御を最適化するために設計されており、ウェーハ間のプラズマ均一性を高めながら、電力変動を最小限に抑えるカスタムエンジニアリングのコイル技術を備えています。このユニットはまた、プロセスの精度と再現性をさらに向上させるために、独自の自動電源制御アルゴリズム（APC）を備えています。さらに、ソースの高周波変調機能により、プラズマ分布を微調整することにより、プロセスの予測可能性と再現性をさらに向上させることができます。Aerosol Jet Coaterは独自の液滴技術を使用して、ウェーハの両側に薄膜インプラントを均一に堆積させます。この革新的な技術により、4 μ mまでの高精度、調整可能な膜厚が可能になり、2％以上の均一性が得られます。さらに、調整可能な面積カバレッジレベルを備えており、成膜の正確なプロセス制御を可能にします。APPLIED MATERIALS Producer GTプロセッサは、制御された要素源の均質性のためのマルチチューブ噴出セルを備えており、インタフェース抵抗とジャンクション漏れを低減します。また、排気チャンバーを備えており、最適なガスフローを確保し、あらゆる粒子を除去しながら最大限のフィルム均一性を実現します。生産者GTリアクターは、MEMS、ナノ構造、金属酸化物半導体、ナノ構造材料、光電子材料など、幅広いナノスケール製造用途に適しています。このツールはモジュラーツール構成に統合され、さまざまな半導体デバイス製造ニーズに対応するエンドツーエンドのプロセスソリューションを提供できます。AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GTリアクターは、優れたプロセス制御、機能豊富な機能、堅牢な均一性制御を備え、最先端のナノスケール機器の製造に最適です。