中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9208937 を販売中
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販売された
ID: 9208937
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2011
CVD System, 12"
Items: FI
FI Robot
FI Robot controller
Aligner
Cool station
FES
FIS
TCS/RT
FFU
Items: LL
LL Upper lifts
LL Upper lift drivers
LL Lower lifts
LL Lower lift drivers
LL Pump
LL Foreline
Items: BUFFER FX
Robot
FX Robot linkage (batwing/bridge)
Robot blades
Robot controller
LCF
Buffer pump
Buffer foreline
MF Controller
Chamber A- ETERNA FCVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, isolator)
Ceramic process kit
Heaters: Pedestal
Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
Chamber B- SACVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, isolator)
Ceramic process kit
Heaters
RF Filters
Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
Chamber C- ETERNA FCVD
RPS
Upper lid stack (gas box, face plate, Isolator)
Ceramic process kit
Heaters: Pedestal
RF filters: N/A Pin lifts
Pin lift driver
Heater lifts
Heater lift drivers
Ch FL, TV, Iso valve
Gas panel (MFC, LFM intact)
Chamber controller
2011 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GTは、単結晶および多結晶半導体材料の製造に使用されるハイスループット、シングルチャンバー、水平、クローズドフレーム炉です。この装置は高いスループット機能を備えているため、サイクルタイムが短縮され、材料歩留まりが向上します。システムには高度なグラフィカルユーザーインターフェイスが含まれており、迅速かつ簡単にパラメーター制御を行うことができます。また、最適な熱性能と均一性を実現するターボポンプ式の水平支持チャンバーで構成されています。AMAT Producer GTには、完全な結晶成長のための高度な温度制御ユニットを備えた統合されたソースるつぼが含まれています。自動基板ホルダーは、基板の正確な位置決めと制御された動きを可能にします。また、より正確な温度測定のための高度なピロメーターと、最適な成長条件のための低圧in-situガス注入機を備えています。APPLIED MATERIALS Producer GTは、標準的な半導体製造ラボでの簡単な設置と操作に便利なサイズです。均一な結晶成長に最適で均一な磁場強度を提供する高性能磁石を利用しています。それはまた部屋の熱循環を減らし、汚染物の沈殿を減らすために動的冷却用具が装備されています。さらに、このアセットには、均一な結晶成長を保証するための高度な基板エッジプロファイリング機能と、熱応力を低減する統合ウェーハ冷却モデルが含まれています。全体として、Producer GTは高度で超高速な半導体材料生産炉であり、比類のない性能、信頼性、効率を提供します。高度なユーザーインターフェイス、堅牢な温度制御装置、統合されたソースるつぼ、動的冷却システム、および高度なウェーハ冷却ユニットを備えたこの高性能リアクタは、最先端の半導体製造に最適です。
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