中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9203130 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT Reactorは、化合物半導体材料の商業生産用に設計された汎用性の高い高効率エピタキシャル成長装置です。このシステムは、様々な成長温度と持続時間を持つ層の成長を促進し、高度な半導体製品の製造に不可欠な高品質のデバイス構造の堆積を可能にします。原子炉は、精密な成長温度制御と均一な加熱を可能にする高度な炉ステージ設計で構築されています。AMAT Producer GTリアクターは、エピタキシャル層の品質を向上させるために拡散、酸化、および熱処理能力を備えています。また、正確なガス流量制御を提供するin-situ、 4ゾーン、ガス拡散ユニットも含まれています。さらに、手動で介入することなく自動的に基板を移動するなど、基板の動きと温度制御のための高性能基板サーマルステージプラットフォームを内蔵しています。APPLIED MATERIALS Producer GTマシンは、高度なガスバブラーを備えており、正確な質量流量とガス濃度の一定の流れを安全かつ便利に提供します。これにより、すべてのコンポーネントが所望の露光期間中にそれぞれのリアクタントガスに正確にさらされ、各バッチで一貫したデバイス性能を実現します。このツールのオートメーションアーキテクチャは、アセットのパフォーマンスを損なうことなく、高スループットでワークロードを最適化するように設計されています。レシピ設定、アラーム応答処理、キュー優先管理などの個別のタスク管理機能により、モデルの使用率が最大化されます。また、統合されたプロセスインテリジェンスにより、診断とレシピの最適化のための直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを提供することで、プロセスパラメータをすばやく視覚化することができます。これにより、プロセスデータの構成可能な多次元ビューが提供され、信頼性の高い正確な意思決定が可能になります。Producer GT Reactorはプロセスの柔軟性を最大限に高め、ユーザーはレシピを別のレシピにすばやく簡単に切り替えることができます。さらに、効率的な設備技術はガス消費を最小限に抑え、プロセス歩留まりを向上させ、ダウンタイムを削減します。高品質で複雑な半導体デバイス構造を費用対効果の高い方法で提供することで、大量の商用半導体デバイスの生産に大きな価値を提供します。