中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9198380 を販売中

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ID: 9198380
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
CVD System, 12" Qty / Part number / Description (1) / 0190- 03068 / PIO Cable board OHT (1) / 0190- 44306 / Loadlock EUROTHEM (3) / 0140- 18773 / Pedestal lift motor cable side 1 (3) / 0140- 18772 / Pedastal lift motor cable side 2 (6) / 3700- 01376 / Pedastal O- ring (1) / 0140- 17152 / Chamber controller signal cable (2) / 0195- 11067 / Chamber AC box (3) / 3980- 00027 / RING BOLT, MF80, 5.95OD W /.358 (6) / 0021- 98006 / ENP Cover, crossdrill (1) / - / LCF Sensor cover (3) / - / EV3 Manifold (2) / - / LCF Sensor window (8) / - / LCF Sensor srew Currently warehoused 2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GTは、半導体の製造に使用される最先端の化学蒸着(CVD)原子炉です。この装置の高度な設計により、半導体基板に高品質で超薄い材料を製造するための理想的なツールとなります。このシステムは、柔軟なプロセスを可能にする2つのチャンバー設計を利用しています。主要な部屋は反応部屋であり、異なった調理法のために調節可能であるガス入口の配列が装備されています。このチャンバーには、ホットウォールサセプターと電磁プラズマ源もあります。サセプターは、化学反応プロセスを開始するために必要なエネルギーを提供するために、最大950°Cの温度に加熱されます。一方、プラズマ源は、ガス分子を構成原子に分解し、これらの原子の均一な分布を確保するのに役立ちます。ユニットにはコントローラとユーザーインターフェイスが装備されています。ユーザーは希望のレシピを入力することができ、コントローラはそれに応じてマシンを構成します。これにより、CVDプロセスのすべてのステップが考慮されます。また、温度、圧力、流量などのさまざまなパラメータを調整して、ツールの性能を向上させることもできます。プロセスが完了すると、冷却された排気ラインが反応室を出て、使用されたプロセスガスを資産の外に向けます。冷却モデルはまた、チャンバーの温度と圧力が最適なレベルで維持されるようにするのに役立ちます。その機能に加えて、AMAT Producer GTは、反応性の高いアスペクト比CVD、低温急速熱処理(RTP)、超低温CVD (LTCVD)など、幅広い先進的な機能を提供します。この装置の先進的な設計により、多種多様な基板や材料に対応でき、半導体生産のための汎用性の高いツールとなっています。結論として、APPLIED MATERIALS Producer GTは、さまざまな基板や材料に対応する柔軟性を備えた先進的なCVD炉です。使いやすさと堅牢なコントローラとユーザーインターフェイスに加えて、幅広い機能と機能を提供します。これにより、半導体生産のための高品質の材料層を生産するための理想的なツールとなります。
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