中古 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9170202 を販売中

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT Reactorは、半導体および関連産業向けに設計された技術的に先進的なデバイスです。このツールは、今日の技術の生産に不可欠な高品位の材料や部品を製造するのに役立ちます。TheProducer GTは、直径240mm、奥行き350mmのプロセスチャンバーサイズの熱プラズマ化学蒸着（CVD）炉です。TCT （Twin Chamber Tunnel）の高性能なソースを搭載しており、ソースに最も近い基板の部分からの熱勾配なしで、ソースから最も遠い領域と比較して均一で反復可能な材料特性を生成することができます。この原子炉はIntelli- Match™ Advanced Source Matching and Modelingテクノロジーを搭載しており、原子炉の電力制御を確実に管理できます。これは、プライマリチャンバとセカンダリチャンバ間の自動周波数ソースのマッチングだけでなく、安全な動作のためのインピーダンス制御装置をAlsofeaturesします。AMAT Producer GTは、ガス噴霧と注入ポータルを備えた非常に効率的なガス配送システムを備えており、正確に制御されたガスの組成と配送を行うことができます。この原子炉はまた、ウェーハ基板全体にわたって均一なプロセス条件を達成するために、荒い真空から大気圧力までの範囲で、調整可能なプロセス室圧を備えています。高度な温度制御機能を備え、高度な温度フィードバック制御ユニットと反応層成長制御機能を備えています。その熱処理の部屋は± 2°Cの正確さの堅牢な温度のモニターそして制御を特色にします。また、プラズマの摂動を最小限に抑え、電子サイクロトロン共鳴波を発生させ、プラズマの閉じ込めと均質性を向上させるために設計された高電圧の直流（HV-DC）電源装置を備えています。また、HV-DC電源は、最大電力密度制御と最大プラズマ密度を提供し、より高速な蒸着速度を実現します。APPLIED MATERIALS Producer GT Reactorは、TiN、 Al2O3、 SiO2、 PECVD、フォトレジスト除去、および熱酸化、拡散、アニールなどの熱処理プロセスを含む幅広いプロセス化学を実行することができます。また、APPLIED MATERIALSのVentura® Central Platformと組み合わせてバッチプロセスを実行することもできます。このツールには、生産性を向上させ、診断機能を強化するために設計された強力なソフトウェアスイートが装備されています。AMAT/APPLIED MATERIALS PreQualソフトウェアスイートと統合されているため、高品質のフィルムの迅速かつ効率的なプロセス開発と製造が可能です。TheProducer GTは、最高のスループットと優れた信頼性を備えた超大量製造をサポートするように設計されています。また、ISO Class 5のクリーンルーム評価により、危険な場所への設置も認証されています。この信頼できるツールは、ユーザーにとって一貫して優れた結果を生み出すことができます。