中古 AMAT / APPLIED MATERIALS PRODUCER EXT #9219513 を販売中
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販売された
ID: 9219513
ウェーハサイズ: 12"
Etcher, 12"
Chamber model: Producer
Bias gen: AE APEX 5513, 13.56 MHz, max 5000W
Bias match: AE
Source gen: AE OVATION 2760, 60MHz, max 2700W
Source match: AE
GDP Size: Y2O3, 14"
Turbo pump: EDWARDS STP-F2203C
Throttle valve: VAT pendulum valve DN-250
FRC: MKS FRCA-26349, 1000 / 1000 1/4 VCR
ESC: Dual zone ceramic ESC
Cathode chillers:
ChA: SMC INR-496-003D
ChB: SMC INR-496-003D
ChC: SMC INR-496-003D
Wall Chillers:
ChA: SMC INR-496-003D
ChB: SMC INR-496-003D
ChC: SMC INR-496-003D
Process kit coating: Y203
Cooling: HT 110 / 135 / FC 3283
Mainframe configuration:
IPUP Type: TOYOTAl 100L
Gas panel type: Next gen
VHP Robot: Dual blade
MF PC Type: CPCI
Factory interface configuration:
Frontend PC type: 306M Server
FIC PC Type: 306M Server
(3) Load ports
Atmospheric robot: YASKAWA Track robot
Side Storage: Left
Dry pumps & Scrubbers:
ChA: EDWARDS iH
ChB: EDWARDS iH
Chc: EDWARDS iH
MFC Configuration: UNIT PTI-125
MFC Configuration: UNIT PTI-125
EC2-61A / Gas name / Max flow / MFC Type
Gas 1 / C4F6 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 2 / CHF3 / 400 / UNIT PTI-125
Gas 3 / CH2F2 / 100 / UNIT PTI-125
Gas 4 / CH2F2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 5 / C4F8 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 6 / N2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 7 / O2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 8 / O2 / 2000 / UNIT PTI-125
Gas 9 / SF6 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 10 / CF4 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 11 / CF4 / 500 / UNIT PTI-125
Gas 12 / AR / 2000 / UNIT PTI-125
EC2-61B / Gas name / Max flow / MFC Type
Gas 1 / C4F6 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 2 / CHF3 / 400 / UNIT PTI-125
Gas 3 / CH2F2 / 100 / UNIT PTI-125
Gas 4 / CH2F2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 5 / C4F8 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 6 / N2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 7 / O2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 8 / O2 / 2000 / UNIT PTI-125
Gas 9 / SF6 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 10 / CF4 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 11 / CF4 / 500 / UNIT PTI-125
Gas 12 / AR / 2000 / UNIT PTI-125
EC2-061C / Gas name / Max flow / MFC Type
Gas 1 / C4F6 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 2 / CHF3 / 400 / UNIT PTI-125
Gas 3 / CH2F2 / 100 / UNIT PTI-125
Gas 4 / CH2F2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 5 / C4F8 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 6 / N2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 7 / O2 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 8 / O2 / 2000 / UNIT PTI-125
Gas 9 / SF6 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 10 / CF4 / 200 / UNIT PTI-125
Gas 11 / CF4 / 500 / UNIT PTI-125
Gas 12 / AR / 2000 / UNIT PTI-125.
AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER EXTは、半導体製造プロセス向けに設計された原子炉で、特にホウ素ガスを用いたシリコンウェハのドーピング用に設計されています。この原子炉は、CMOS （CMOS）チップの製造に完全なホウ素インプラント溶液を提供するように設計されています。AMAT PRODUCER EXTはPRODUCERシリーズの最新バージョンであり、単一のウェーハリアクタシステムに代わる低コストを提供するために開発されました。アプライドマテリアルプロデューサーEXTリアクターは、ホウ素ドーパントプロファイルを生成するために最適化された単一のウェハ、垂直拡散炉です。従来のシングルウェーハシステムよりも最大10倍高いドーパント濃度を生成するように設計されており、インプラント角度を変化させて超微細なライン機能を作り出すことができます。また、原子炉は信頼性が高く、エネルギー効率が良いように設計されています。PRODUCER EXTは、高度なプラズマ源を利用してホウ素ドーパントガスを生成します。このプラズマは、容量結合されたRFエネルギーを使用してホウ素ガスを生成し、ビームライン炉でウェーハに供給します。これにより、ウェーハ上の望ましい深さでホウ素を精密に投与することができ、無駄が少なく生産性が向上します。AMAT/APPLIED MATERIALS PRODUCER EXTには、ユーザーがインプラントのスポットプロファイルを監視し、配置精度を検証できる高解像度基板ビューアが含まれています。ユーザーは、オンボードプロセス制御ソフトウェアを使用してインプラントの深さを制御することができます。これにより、各ウェーハで望ましいドーパント濃度プロファイルが達成されます。AMAT PRODUCER EXTは、取り付けとメンテナンスが簡単なモジュラーコンポーネントで設計されています。これにより、生産をスケールアップし、異なるインプラント・プロファイルのシステムを再構成することが容易になります。さらに、APPLIED MATERIALS PRODUCER EXTの小型化により、ラボから量産工場まで、さまざまな施設に設置できます。PRODUCER EXTリアクターは半導体製造プロセスに理想的なソリューションであり、ホウ素インプラントのプロファイルを生成するための信頼性と費用対効果の高いソリューションを提供します。無駄を最小限に抑え、優れた電力効率で高精度な投与能力と高い歩留まりを提供するように設計されています。様々な設備タイプやサイズに設置でき、設定性に優れています。
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