中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9254064 を販売中
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ID: 9254064
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1996
Systems, 6"
(3) Chambers
Wafer loading type
Processing type: W-Plug
Exhaust:
Main system: NW 50
Gas line:
Unit / Maker / Model
Chamber A:
MFC1 / STEC / SEC-4400
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-8160
MFC4 / UNIT / UFC-1660
MFC5 / STEC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1661
MFC7 / UNIT / UFC-1660
MFC8 / UNIT / UFC-1660
Chamber B:
MFC1 / STEC / SEC-4400
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-1660
MFC4 / UNIT / UFC-1660
MFC5 / STEC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1100
MFC7 / UNIT / UFC-1260A
MFC8 / UNIT / UFC-1660
Chamber D:
MFC1 / STEC / SEC-7440
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-1660
MFC4 / STC / UFC-1660
MFC5 / STC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1660
MFC7 / UNIT / UFC-1660
MFC8 / UNIT / UFC-1660
OEM No marking transfer
Gauge:
Chamber / Maker / Model
Chamber A / MKS / 627A
Chamber B / MKS / 127AA
Chamber D / MKS / 624A
RF Unit:
Chamber / Maker / Model / Unit
Chamber A, B and D / ENI / OEM-12B / Generator
Chamber A / B / D / OEM / 0010-09750R / Matcher
Sub module:
Maker / Model / Unit
(3) EDWARDS / QDP40 / Dry pumps
EBARA / A30W / Dry pump
AMAT / APPLIED MATERIALS / AMAT0 / Heat exchanger
(2) UNISEM / UN2004A-HW / Scrubbers
Power supply: 208 VAC, 3 Phases, 50/60 Hz
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000Wリアクターは、空港金属化学蒸着装置としても知られ、バッチまたはクラスタツールセット内の高度な半導体プロセス用に設計された汎用性と信頼性の高いツールです。シリコンウエハーに極薄層の材料を堆積させ、集積回路生産に使用される複雑な構造を製造するために使用されます。AMAT P5000Wは、優れたプロセス再現性と信頼性を提供する高効率の機器です。アプライドマテリアルズP5000Wは、自動的にワンステップロードロックを備えており、ウェーハを反応チャンバに直接配置することができます。これにより、ウェーハ転送の必要がなくなり、プロセスのサイクル時間が短縮されます。チャンバーの容積は約70リットルで、動作温度範囲は5˚C〜+450˚Cです。汎用性の高い設計により、フィルム構造の単層・多層蒸着など様々なプロセスに使用できます。P5000WはPCベースのロボットと完全なプロセス制御環境で設計されています。プロセスの結果を監視する独自のリアルタイムフィードバックユニットを備えています。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS P5000Wは低温動作に最適化されているため、複雑なプロセスレシピに最適です。高度な制御装置は、完全な統計的プロセス制御、迅速な診断、最適なチューニング、および正確な研究化学制御機能を提供します。AMAT P5000Wにはターボソース技術があり、さまざまな厚さの層を正確に堆積させることができます。これにより、非常に均一なフィルムを堆積させることができ、断面の均一性とパターン再現性が向上します。APPLIED MATERIALS P5000Wは、正確で反復可能な基板厚さを可能にするように設計されたトリプル基板校正ステーションも備えています。P5000W原子炉は、高度な半導体の蒸着プロセスのために設計された強力で信頼性の高いツールです。自動化されたワンステップロードロック、PCベースのロボットとプロセス制御環境、ターボソース技術、トリプル基板校正ステーションなど、その機能の範囲は、最適な総所有コストのための優れたプロセス再現性と信頼性を提供します。
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