中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9408602 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9408602
ウェーハサイズ: 8"
CVD System, 8" (3) Chambers PE-SiO2.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、高度な半導体デバイス製造用に設計されたハイエンドのPECVD炉です。この機器は、高信頼性、コンパクト、モジュラーアーキテクチャを使用して、最適なシステムパフォーマンスを提供します。AMAT P-5000は、ウェーハ表面全体の均一性を確保し、より高い精度、再現性、およびスループットを駆動するために、拡張シャワーヘッドを備えたSiH2Cl2大気圧CVDプロセスチャンバーを備えています。プロセスチャンバーに統合されたデュアルパルスプラズマソースは、迅速なウェーハ表面活性化を提供し、モジュラーアーキテクチャと堅牢なハードウェアコンポーネントにより、長期的な互換性と信頼性を確保します。アプライドマテリアルズP 5000の自動ウェハローディング、ハンドリング、ロボットアームユニットは、最高の精度と再現性を維持しながら、非常に低いサイクルタイムを提供します。シリコン、窒化物、アルミニウムなどのあらゆる種類の基板を処理する機能を備えているため、さまざまなプロセスの課題に柔軟に対応できます。このマシンは、DVDやSEM分析などの高度な分析ツール、ならびにレシピオートメーションおよびシミュレーション技術を統合して、プロセス改善を推進します。P 5000はまた、効率的な制御とデータ転送のために、既存の製造環境との完全な統合をサポートしています。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、半導体加工において優れた性能と歩留まりを提供するよう設計されています。高い信頼性、均一性、精度、並外れたスループットと制御性を提供し、先進的な半導体デバイスの製造に最適です。
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