中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9407851 を販売中
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ID: 9407851
CVD System
PC Rack
Source cabinet
Molded transformer
NESLAB and desk
UPS
Missing parts:
(2) Gas processing devices
(2) Vacuum pumps
Controller box
Parts box.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000プラズマエッチング炉は、半導体デバイス製造用に設計された高度な大気圧力エッチング装置です。この原子炉は、精密エッチング、高解像度パターニング、小型で複雑な基板構造の正確なドーピングなど、幅広いプロセス能力を備えています。AMAT P-5000は、ディープエッチングや異方性エッチング、絶縁パターンや正確なドーピングを行うことができ、ULSI回路や化合物半導体デバイスなど、さまざまな高性能電子アプリケーションに最適なツールです。アプライドマテリアルズP 5000は、電子サイクロトロン共鳴（ECR）マイクロ波プラズマ源を利用して、半導体材料を効果的にエッチングおよびドープするためにラジカルとイオンを供給しています。このECRソースは13。56MHzで動作し、APPLIED MATERIALS P5000に非常に安定した正確なプラズマ環境を提供します。このため、P 5000は高アスペクト比の機能をエッチングすることができ、高解像度デバイス用の小さな機能を作るのに役立ちます。また、エッチングP5000高い選択性を備えているため、基層を損傷することなく、異なる材料を選択的にエッチングすることができます。P-5000は、使いやすいメニュー駆動の操作システムを備えており、迅速かつ簡単な操作を可能にします。また、自動チューニング機能を備えており、操作がさらに簡単になり、ユーザーはさまざまなエッチングレシピとプロセスステップをすばやく変更できます。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000にはオンボードコンピュータコントロールユニットが装備されており、同じタイプの他の機器と相互接続することができます。このコンピュータ制御機械はまたユーザーがより一貫した結果を保障するプロセスパラメータを正確に制御することを可能にします。AMAT P5000は、幅広い寸法の基板を取り扱うことができます。直径8インチまでの基板に対応し、高解像度基板の生産レベルのエッチングに適しています。このツールは、温度と湿度が制御された環境に囲まれており、プロセス中の温度とガスの安定性を確保します。全体として、AMAT P 5000は、半導体材料の正確で精密なエッチングとドーピングを行うことができる高度なプラズマエッチング資産です。APPLIED MATERIALS P-5000は、幅広いプロセス能力とユーザーフレンドリーな操作モデルにより、高解像度の回路やデバイスをエッチングするための信頼性の高い効率的な手段を提供します。
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