中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389533 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、200mm、低コスト、急速熱処理（RTP）炉です。本装置は、高度な半導体デバイス製造アプリケーション向けに特別に設計されており、集積回路（IC）生産に最適化されています。精密な温度制御を備えた高精度のプロセス制御システムを備えており、すべてのアプリケーションで一貫した再現性のある処理を保証します。このユニットは柔軟性が高く、シリコン、ゲルマニウム、混合金属化合物など、さまざまな材料に使用できます。AMAT P-5000炉は、放射ガス炉、焼戻し装置、プロセスコントローラで構成されています。放射ガス焼却炉2は、水素、窒素、アルゴンを組み合わせて加熱され、ウェーハ処理中も一貫して高い温度を維持することができます。焼戻し装置は炉の範囲を通して温度調整を可能にする2段階の単位で、精密なプロセス制御を可能にします。プロセスコントローラは強力なユーザーフレンドリーなインターフェイスで、ユーザーはさまざまなアプリケーションを実行するためにマシンをプログラムすることができます。さらに、APPLIED MATERIALS P 5000にはデータロギングツールが内蔵されており、各プロセスで収集されたデータを文書化することができ、プロセス開発とアプリケーションのサポートを提供します。応用材料P-5000は、酸化、窒化、合金化、ドーピング、拡散プロセスなど、さまざまなプロセス機能を提供します。これらのプロセスは、トランジスタソースの製造、厚みの大きい継手、試験構造などのデバイス製造に適用できます。さらに、プロセス制御アセットを内蔵することで、プロセスの再現性を向上させることができます。RTPリアクターP5000柔軟性が高く、シリコン、ゲルマニウム、および混合金属化合物を含むがこれに限定されない範囲の材料の製造を可能にします。この柔軟性と堅牢なプロセス制御モデルを組み合わせることで、UHPグレードの材料を正確に加工することができ、歩留まりと性能が向上します。さらに、炉はバッチまたは連続モードで実行することができ、ユーザーはプロセスをニーズに合わせて調整することができます。最後に、AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は環境に優しい機能で設計されており、ユーザーは環境への影響を最小限に抑えたプロセスを実行できます。