中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9377275 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、金属間誘電体蒸着アプリケーション用に設計された原子炉です。AMAT P-5000は、トレンド設定の柔軟性と複雑な高アスペクト比プロセスに必要な優れた長期的性能を提供する4チャンバー蒸気供給装置を備えています。APPLIED MATERIALS P 5000は、統合されたプロセスコモロビレータ、クワッドリシールド高真空マルチチャンバーターボポンプ/充電器、データ収集およびプロセス制御用のAllen-Bradley PLCコントローラなど、多くの高度な機能を備えています。P5000は、高出力RFおよびDC電源を使用して、ダミー、ポリテスト、フィルムコーティングされたウェーハを含む幅広いウェーハに成膜することができます。このシステムには、ユーザーが希望する膜厚と動作温度範囲を設定できるプログラム可能なデジタルユーザーインターフェイスも含まれています。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、さまざまな統合スキームのプロセスを最適化するために、複数のプログラム可能なRF周波数も提供します。P-5000は、ターボポンプ/充電器、不活性ガス注入マニホールド、浸潤マニホールド、反応性ガス注入マニホールドおよび反応チャンバーからなる4チャンバー蒸気供給ユニットを備えています。この配置により、堆積率とプロセスの一貫性を最大限に制御できます。浸透および反応性のガス注入多様体はAMAT/APPLIED MATERIALTS P 5000が均一な厚さおよび優秀な適用範囲の金属および誘電層を沈殿させることを可能にします。反応チャンバーは、蒸着プロセス全体で均一な温度を確保するために、精密制御マルチゾーン加熱素子で加熱されます。さらにプロセス制御を確実にするために、アプライドマテリアルズP5000、統合された光学ピロメータと保護シールドのマシンを備えています。光学ピロメータは反応チャンバー内の熱を測定し、プロセス温度が重要な仕様に維持されるようにします。シールドは、基板を保護し、ツール内の生成された放電からガスを処理するのに役立ちます。P 5000は、特殊基板、設計規則、およびプロセス要件に対応するための幅広いプロセスツールを提供します。このアセットは、特殊なウエハータイプの基板処理ツールと、酸化保護、プロセス均一性、および粒子制御のためのさまざまな保護コーティングを提供します。このモデルはまた、反応温度を制限し、汚染を防ぎ、再現性を向上させるエンドポイント制御ツールを提供しています。要約すると、APPLIED MATERIALS P-5000は、インターメタル誘電体蒸着アプリケーション用に設計されており、4チャンバー蒸気供給装置と、統合されたプロセスコモロビレータやプログラム可能なユーザーインターフェイスなどの高度な機能を備えています。このシステムには、複数のRF周波数と統合された光学ピロメータと保護シールドが含まれており、プロセス制御を保証します。このユニットは、特殊な基板、設計規則、およびプロセス要件に対応する追加のプロセスツールを提供します。