中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9377273 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、薄膜と金属有機化学蒸着（MOCVD）の成膜用に設計された先進的な化学蒸着（CVD）原子炉です。革新的なアーキテクチャにより、AMAT P-5000は、最も要求の厳しいアプリケーションに精密で高性能な成膜を提供します。アプライドマテリアルズP 5000は、エネルギー使用を最小限に抑えるために、高効率、低消費電力動作を利用しています。この原子炉は、モジュール式、高温および低圧プラットフォームで設計されており、正確な温度制御と均一なフィルム蒸着を提供します。この原子炉は、シリコンやゲルマニウムなどのより高い温度要件を持つ材料を含む、幅広い材料に対応するように特別に設計されています。APPLIED MATERIALS P-5000は、独自の精密な不活性ガス供給装置を備えており、高度なプロセス制御を可能にします。システムには「nulling」アルゴリズムが含まれており、ユニットを調整して事前に選択された濃度に到達します。これは非常に均一で均一なフィルムの品質を提供します。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000はまた、ガス供給機を簡素化し、事前構成およびインデックス化された方法で幅広い内部ガスラインを提供します。この高度な技術により、オペレータは手動で介入することなく、特定の堆積パラメータをすばやく切り替えることができます。P 5000は、耐食性と圧力および温度要件を満たすように設計された、信頼性の高い堅牢な原子炉です。高度な制御ボードにより、監視、制御、プロセスの最適化が容易になり、幅広いパラメータ設定が可能になります。アプライドマテリアルズ（APPLIED MATERIALS） P5000は、初期の前駆体の配送から基板の選択まで、包括的な成膜ソリューションを提供する統合ツールです。その膜厚パラメータの広い範囲は、不活性ガス供給資産と相まって、均一な蒸着品質を確保するのに役立ちます。リアクターは管理可能な価格で、コストに敏感なアプリケーションに最適です。