中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9351761 を販売中

ID: 9351761
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
CVD System, 8" Process: LTO CVD, TEOS 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、半導体生産における正確かつ効率的なサンプル処理を可能にするように設計された最先端の原子炉です。強力な反転リニアデザインと交換可能なポッドを使用して、AMAT P-5000は最高レベルの精度と精度を提供することにより、生産プロセスを強化します。超安定な真空クラッドサンプルステージを備え、最大4枚のウエハをサポートし、あらゆる方向に基板を高繰り返すことができます。デジタル制御、容量連結、低温ロードロックにより、原子炉内外へのウェーハの制御転送が容易になり、裏面汚染から熱的に保護されます。APPLIED MATERIALS P 5000は、2つのRuO ¬ 2コートモリブデン加熱バーと高出力クォーツチューブからなる高度なデュアル加熱装置により、優れた温度均一性、熱精度、温度範囲を実現します。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000の優れた温度均一性と精度により、高感度プロセスでも正確な基板加工結果を得ることができます。徹底的な安全対策により、P5000は利用可能な最も安全な原子炉の設計の1つになります。その最先端のアラームシステムは、温度、真空圧力およびその他のユニットパラメータの変化や不規則性を考慮し、変更が行われるとすぐに人員に不規則性を通知します。P-5000はまた、人員を不要な粒子にさらすリスクを軽減する特許取得済みのマスキング技術を特長としています。AMAT P 5000は、優れた精度と精度に加えて、短いサイクル時間と幅広いプロセスオプションで迅速かつ信頼性の高いサンプル処理を可能にします。この高性能マシンは、処理速度が向上した大量の生産環境や設備での使用に最適です。優れた性能を確保するために、AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、機械の柔軟性と統合性を高めるオープンアーキテクチャで設計されています。この原子炉には、高精度のマルチセンサーデータ収集ハードウェアと、すべてのパラメータが設定された範囲内にとどまるようにプロセスのあらゆる段階を監視できるソフトウェアが装備されています。全体として、APPLIED MATERIALS P-5000は、生産環境向けの業界をリードする原子炉です。
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