中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9313502 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、高度なリソグラフィおよび半導体プロセスで使用するために設計された高出力、高収量プラズマエッチングチャンバーです。このプラズマエッチングチャンバーは、金属、ポリマー、誘電体など、幅広い材料の精密エッチングに使用されます。最大50mBarおよび500°Cまでの温度で動作可能で、エッチプロファイルを正確に制御できる高精度エッチングが可能です。AMAT P-5000はエッチングプロセスに革命をもたらし、複雑なマイクロエレクトロニクス部品の精密エッチングを高速化しました。APPLIED MATERIALS P 5000の主な利点は、高い電源と正確なチャンバー設計の組み合わせです。この原子炉は、幅広い周波数能力を備えた高出力のオールステーション型のプラズマ源を利用しています。これにより、RF周波数と印加磁場の両方を制御することにより、フィーチャーのエッチング速度と形状を正確に制御できます。また、高度なガス混合と圧力制御の使用は、最大+/-1％のエッチング深さ均一性を保証します。P5000はまた、原子炉内の正確な温度を維持する能力を誇っています。このチャンバーは、クローズドループ式水システムを使用して冷却され、ターゲット領域にわたって均一なエッチングを保証するタイトな温度制御を可能にします。これはまた、安全性を高めるのに役立ちます、腐食およびターゲット材料の他の反応関連の損傷を防ぎます。APPLIED MATERIALS P-5000には、迅速かつ簡単なプロセス制御を可能にする多数の統合センサーと診断ツールが含まれています。プロセスパラメータの制御をリアルタイムで監視・調整できるため、エッチング工程の微調整が容易になり、最適な性能が得られます。最先端の技術と堅牢な設計により、P 5000は優れたエッチング処理性能と精度を可能にする先進的な原子炉です。小型電子部品から大規模なデバイスやシステムまで、AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、高い歩留まりエッチングのための信頼性と費用対効果の高いソリューションを提供します。