中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9308744 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、エピタキシャル基板やホームピタキシャル基板、炭化ケイ素、ヒ素ガリウム、InPなどの広帯域半導体デバイスの大量生産用に設計された化学蒸着（CVD）炉です。この装置は、AMAT拡散および化学反応プロセスを利用して、基板上に薄いコンフォーマル材料を堆積させます。AMAT P-5000は、1時間あたり最大1,000個のウェーハを生産できる大容量システムで、ワイドバンドギャップ基板を成長させるように設計されています。これは、六角形エピタキシー結晶の形成を可能にする反応ゾーン、拡散ゾーン、およびガスゾーンを利用しています。APPLIED MATERIALS P 5000は、大気圧、プロセス温度、流量を制御することにより、超薄膜およびホームピタキシャル層を生成することができます。応用材料P-5000は、前反応帯と主反応帯を特徴とする2ゾーンプロセスを利用しています。反応前ゾーンでは、ガスは特定の流量と温度で導入されます。生成されたプラズマは分子をより小さな破片に分解し、それを反応ゾーンに運びます。反応帯では、断片は薄くてコンフォーマルな層として基質に堆積します。最適な処理制御のために必要に応じて流量も上下に増幅されます。また、リアクターP5000デジタル温度制御、圧力制御、RFマッチングを備えており、プロセスパラメータを正確に制御できます。開いた部屋の設計はまた異なったガスおよび混合物が特定の適用に使用することができることを保障するのを助けます。このユニットは、帯電防止部品を備えた最適な安全性のために認定されており、信頼性が向上しています。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000は、高度な材料を成長させるための汎用性と効率的なツールです。大気圧、プロセス温度、流量を制御することで、半導体デバイスに最適な高品質の基板や材料を確実に成長させることができます。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、精密な制御と強化された安全機能により、次世代技術の実現に必要な高性能材料を提供することができます。