中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9296351 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、シリコンベースの薄膜の高度な蒸着に使用される汎用性の高い高性能な化学蒸着（CVD）反応器装置です。AMAT P-5000は、デュアルチャンバー構成の水平原子炉です。それは温度、圧力および流れの精密な制御を要求する高度の沈殿プロセスのために設計されています。このシステムは、プロセスチャンバーのロードロック用のトップチャンバーと、ロードロック制御およびウェーハ転送用のボトムチャンバーを備えています。APPLIED MATERIALS P 5000は、自動化プロセス、高温機能、低圧動作、精密プロセスパラメータなどの高度な管理機能を備えています。それは標準的なシリコンCVDプロセスガスと作動でき、任意300mmの両立性があります。統合されたガス管理は反応温度を制御し、詳細な再現可能な温度監視と均一性制御が可能です。このユニットには、特許取得済みの熱閉じ込めシェル設計もあり、熱間層別化を排除します。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000の加熱エンクロージャは、2つのチャンバごとに独立した温度と圧力制御を可能にすることで、プロセス性能を最大限に再現できるように設計されています。また、上流の圧力レギュレーションと、内蔵のウェット/ドライバキュームマシンを備えています。P 5000は、自動化されたレシピ制御、リモートプログラマブルプロセスパラメータ、およびツールステータスとプロセスパラメータを監視および制御するネットワーク機能などの高度なプロセスコントロールを備えています。また、ロードロックおよびウェーハ転送システムのリアルタイム監視および制御も備えています。統合されたガス管理資産、高温機能および低圧操作はすべて改善された効率および反復可能性を提供します。最後に、P-5000は、緊急シャットオフ、可聴および視覚アラーム、安全なデータ転送などの安全機能を備えています。このモデルは耐久性と信頼性があり、メンテナンスが容易であるため、スパッタリングやCVDなどの高度な蒸着プロセスに最適です。