中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9294470 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、産業用に設計された化学蒸着（CVD）炉です。この原子炉は、幅広い半導体、LED、フラットパネルディスプレイ製造アプリケーションに不可欠な技術を提供します。これは、シングルウェーハまたはデュアルウェーハ、回転サセプター付きクアッドチャンバーリアクターであり、誘電体、半導体、金属薄膜を堆積することができます。この原子炉には、必要に応じて回転を高速化または減速することができる電動ウェハキャリアが装備されています。2つのロードロックは、最大2つのプロセスウェーハを4つの誘導加熱チャンバにファーストイン、ファーストアウト（FIFO）ローディングします。ウェーハキャリアの動きは、ウェーハの両側の正確な加熱を保証します。チャンバーは、1つの調整ノブでそれぞれ給電された4つの同一のサセプターを介して加熱されます。これにより、各チャンバーの温度を正確に制御できます。プロセスガスは、単一のプロセスガス供給マニホールドから供給されます。プロセス動作圧力は、最適な真空制御のために2つのキャパシタンスマノメータによって電子的に監視されます。AMAT P-5000リアクターは、自己診断機能とデータ記録機能も備えています。ウェーハ転送は、リアクタコントローラのメモリにウェーハ追跡データを記録するカメラシステムを介して追跡および監視されます。さらに、アプライドマテリアルズP 5000は、ウェーハの表面全体に均一な成膜を提供することにより、さまざまなプロセス構成を可能にします。P-5000の設計は柔軟で信頼性が高く、原子炉はSiN、 AlN、 SiO2、 CET、タングステンなどのさまざまな材料で使用できます。APPLIED MATERIALS P5000の高いスループット率、短いサイクルタイム、信頼性の高い動作により、薄膜の産業規模の生産において費用対効果が高く効率的な選択肢となります。