中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9291585 を販売中
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ID: 9291585
System
Chamber position: A, B, D
Downstream Plasma Apparatus (DPA)
Slit valve type: S Slit
Slit valve o-ring: Kalrez
Lamp module: Standard
Heater window: Quartz
Throttle valve: Cluster
No lamp module water flow switch
No Endpoint detector
No RGA port
Manometer:
VCR: 10T (Silane)
VCO
Process kit:
Wafer lift: Metal (Standard)
Pumping plate: 0020-30059
GDP / Blocker: 0020-30286 / 0020-34775
Gas delivery options:
Silane chamber, 8"
Pallet / Process / Flow / Cal / MFC
Position / Gas / Size / Gas / Type
1 / SiH4 / 500 cc / SiH4 / Unit 1660
2 / NH3 / 300 cc / NH3 / Unit 1660
3 / N2O / 3 slm / N2O / Unit 1660
4 / NF3 / 5 slm / CF4 / Unit 1660
5 / N2 / 10 slm / N2 / Unit 1660
RF frequency: Single.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactorは、半導体製造に特化した最先端の製造設備です。ロジック、メモリ、ミックスドシグナル集積回路（IC）など、さまざまなタイプの半導体デバイスを製造するために使用できる強力で汎用性の高いツールです。AMAT P-5000は、原子炉室、ガス分配システム、コンピュータ化されたコントローラなど、いくつかのモジュールで構成されています。APPLIED MATERIALS P 5000の主な構成要素は、反応プロセスを収容するステンレス鋼ユニットである原子炉室です。このチャンバーは、さまざまな温度、圧力、およびガスの流れに構成することができ、さまざまなプロセスを実行することができます。チャンバーには、プロセスのリアルタイム監視とパフォーマンス分析を可能にする石英ウィンドウも装備されています。APPLIED MATERIALS P5000には、ガス分配ユニットとコンピュータ化されたコントローラも含まれています。この機械は、処理条件に関係なく、正しいガス混合物がチャンバーに供給されることを保証します。また、圧力、温度、反応室寸法などのパラメータの微調整も可能です。これにより、目的の最終結果が得られるようになります。最後に、AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000には、低温および高温のアラーム資産、圧力監視モデル、過圧保護バルブなど、いくつかの安全機能も含まれています。原子炉には、ガスの化学組成を監視するセンサーも装備されており、プロセスが安全で効率的であることを確認するのに役立ちます。結論として、P5000 Reactorは、半導体デバイスを製造するための強力で汎用性の高いツールです。その広範な機能は、さまざまなプロセスの正確な要件を満たすように構成することができ、目的の最終結果が得られるようにします。その多数の安全機能は、あらゆるプロセスが安全で効率的であることを保証します。
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