中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255618 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、高度なデバイス構造や高度なパッケージングなどの超高性能半導体アプリケーション向けに設計されたマルチチャンバー、マルチステージ真空プロセス装置です。AMAT P-5000は、これらのアプリケーションに必要な真空プロセス工程の範囲内で温度とガスを正確に制御するように設計されたマルチチャンバーシステムです。メインチャンバー、シールドチャンバー、プロセスチャンバー、4つのプレクリーンチャンバーを備えた8チャンバー設計です。メインチャンバーには、事前に設置された反応性プロセスチューブを備えたベースプレートがあり、シールドチャンバーにはプロセス中に追加の熱保護を提供する高温炉が装備されています。プロセス部屋は沈殿装置の3つの源を含んでいます：マイクロ波源；電子サイクロトロン共鳴源；ドリフトチャンバーのソースです。このユニットには、高度なプロセスインテリジェンスと統合制御システム、およびさまざまな安全および監視システムが含まれています。プロセスインテリジェンスソフトウェアは、最適化されたプロセスレシピの自動開始を可能にするために使用されます。さらに、このマシンは、パワーレベル、プラズマパラメータ、温度、およびプロセスに必要なその他の要件の監視と制御を可能にするタッチスクリーンインターフェイスを備えています。このツールは、サブオーム生産のためのデカップリングされたプロセス、および50nm以下の特徴を持つ非常にトレンチウエハを含むプロセスを処理するように設計されています。複雑な二重組成と二重層の堆積の組み合わせだけでなく、複数の段階でプロセスを再循環することなく、超低温度でシーケンシャルエッチングおよび堆積ステップを実行するように設計されています。APPLIED MATERIALS P 5000は、上記の機能に加えて、独自のRFソース励起、高度なイオンビーム源、高度なチャンバー形状、運動光学などの革新的な技術を利用しています。これらの技術は、コーティングとパターニングの高速かつ均一性を達成することができます。P-5000はまた、優れたアクセシビリティとメンテナンスを可能にするデュアルレベルの設備レイアウトを提供しています。APPLIED MATERIALS P-5000は、超高性能半導体アプリケーション向けに特別に設計されたマルチチャンバー、マルチステージ真空プロセス資産です。高度なプロセスインテリジェンスと統合制御システム、さまざまな安全監視システム、革新的なデュアルレベルの設備レイアウトを備えています。最先端の技術により、高度な半導体生産アプリケーションのコーティングとパターニングに驚異的な速度と均一性を提供することができます。