中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9237058 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、科学者やエンジニアに、制御された大気中のさまざまな基板に材料の薄い層を正確に操作、堆積、成長させる能力を与える原子炉、または堆積室です。プラズマ強化化学蒸着（PECVD）技術を使用した低温処理ツールで、従来の化学蒸着（CVD）法に比べて、より高速な蒸着速度とより優れたステップカバレッジを提供します。AMAT P-5000は使いやすく効率的なシステムであるように設計されており、様々な条件下で材料を基板に堆積させ、既存の表面を単に洗浄してアニールすることができます。この原子炉は、窒化ケイ素、誘電性酸化物、アモルファス炭素、およびシリコン、ゲルマニウム、およびその他の金属の堆積など、さまざまな材料を堆積させるために使用することができます。APPLIED MATERIALS P 5000は、材料の薄層を高精度で正確に制御および堆積することを可能にするいくつかの主要部品で構成されています。これらのコンポーネントには、ベントエンクロージャと真空チャンバー、ホルダー付き基板テーブル、蒸着ソース、および自動化されたプロセスバルブが含まれます。エンクロージャは真空の下で部屋を保ち、沈殿プロセスが起こるための精密で、安定した環境を可能にします。基質のホールダーはプロセスの間に基質をしっかりと保持します、 そして蒸着源は不活性ガス分子から高エネルギーのプラズマを作成します、 材料の薄い層を基質に沈殿させるために必要であるかどれが、 自動化されたプロセスバルブは、開閉することができますが、材料は、プロセス中に生成される排気ガスを入力することができます。P 5000は精密な、良質の沈殿プロセスを保障するように設計されていますが、また非常に有効です。この蒸着室には効率的な熱制御システムが装備されており、沈着時の基板への熱負荷を最小限に抑えることができます。さらに、ガスとエネルギーの使用量を最小限に抑えるように設計されているため、効率が向上し、コストが削減されます。全体として、APPLIED MATERIALS P5000は汎用性が高く、効率的で使いやすい成膜チャンバーであり、科学者やエンジニアがさまざまな基板に薄い層を精度と精度で堆積させることができます。低温処理能力と効率的なエネルギーおよびガス使用機能により、研究、開発、製造アプリケーションにとって貴重なツールとなります。