中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9217907 を販売中
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販売された
ID: 9217907
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
CVD System, 8"
Process: SIO
Process chamber:
Chamber A & B: SIO
Chamber D: ETCH
Chamber version:
Chamber A & B: VAT ISO Valve
Chamber D: Standard
RF Generator type:
Chamber A & B: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
AI
AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Manometer type:
Chamber A & B: MKS 122B 11441
Chamber D: MKS 127
RF Matching box type:
Chamber A & B: 0010-09750D DR
Chamber D: 0010-09416
Turbo pump type:
Chamber D: LEYBOLD NT340M
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, Top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A & B: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A & B: P/N 0015-09091
Chamber D: P/N: 0015-70060
Signal tower
Gas panel type: (28) Gases
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / O2/ 100 / N2 / STEC / SEC-4400
D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 3000 / N3 / STEC / SEC-4400
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、大量の半導体製造のために設計されたフル機能の自動処理ツールです。優れたパフォーマンスのために精密設計されており、さまざまなプロセスレシピと構成可能な機能を提供し、最大限の汎用性を提供します。AMAT P-5000は、より高いスループットで大量の基板を処理できる強力な加工チャンバを提供します。5ゾーンカセットスタイルのロードロックと基板搬送装置を備えており、安定した熱循環と再現可能なプロセス条件を保証します。また、温度、圧力、およびその他の環境パラメータを監視するためのデジタルおよびアナログのロードロックセンサーも提供しています。この原子炉は、プログラミングと機器管理を簡素化するための統合されたDataBossとPrimusソフトウェアを提供する強化されたオートメーションプラットフォームを備えています。DataBoss Explorerソフトウェアは、レシピを迅速に構成し、プロセス結果を最適化するための高度な光学および人間工学的機能を提供します。Primusソフトウェアを使用すると、レシピをプリセットし、複数のプロセスコントローラにアクセスしてレシピの進行と基板のスループットを最適化できます。APPLIED MATERIALS P 5000には、高速サイクル時間と優れた制御精度を提供するSuite 200超高真空クラスタステーションが装備されています。このユニットには、VacGenExデュアルガン、シングルライナー蒸着機能も備えており、優れた蒸着品質とスループットを提供します。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000は、誘導結合プラズマ（ICP）、無線周波数（RF）バイアス、マイクロ波プラズマ、遠隔プラズマ源プラズマなど、幅広いプラズマ技術を特長としています。これらのプラズマ技術はすべて、プロセスの柔軟性と歩留まりを向上させるように設計されています。機械にまた精密な温度調整のための統合された暖房および冷却機能があります。APPLIED MATERIALS P5000は、プロセスガスを無効化してメンテナンスコストを最大限に削減し、最大8基の原子炉をサポートしてスループットを向上させます。結晶シリコン、GaAs、ガラスなど様々な基板・基板タイプに対応しています。AMAT P5000には、アルゴンガス圧力モニタリング、慣性センサー、静電気防接地システムなどの統合安全機能が搭載されています。また、高度なレポートおよび分析機能により、ユーザーはデータを迅速に分析し、デバイスの歩留まりに影響を与える可能性のあるパフォーマンス傾向を特定できます。
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