中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9199844 を販売中

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ID: 9199844
ウェーハサイズ: 6"
CVD System, 6" (4) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、半導体ウェーハを処理するための最先端の低圧プラズマリアクターです。この装置は、さまざまな種類の材料や表面の成膜、エッチング、洗浄を制御するために特別に設計されています。AMAT P-5000は、高アスペクト比フォトレジストアプリケーションの処理が可能です。APPLIED MATERIALS P 5000は、フロントエンド・オブ・ライン(FEOL)およびバックエンド・オブ・ライン(BEOL)の両方の操作のための先端材料を扱うことができるため、プラズマシステムの中でもユニークです。最大400 WのRF電力を供給できる高出力の無線周波数(RF)発電機、優れたプラズマ均一性と選択能力を提供する独自のプロセスチャンバー、シリコンベース基板に最適化された強力なプログラマブル自動化を備えています。AMAT P 5000は、狭い寸法線やスペーサのパターン化など、高アスペクト比プロセスに最適です。内蔵のホットウォールRF発電機を使用することで、優れたエッチング速度と選択性を実現し、最大400 WのRF電力を供給できます。これにより、プロセスの結果を改善するために必要な工程の数を減らすことができます。AMAT P5000は450°Cまでの温度調整の0。1-100 mTorrの圧力で内部エッチガスを利用します。高性能オートメーションシステムを提供し、処理シーケンス全体でガスの流れ、温度、圧力設定の最適な組み合わせを可能にします。さらに、ユニットの設定は、幅広いプロセスのために簡単に変更することができます。このマシン独自のチャンバー設計は、高度なデュアルモード水冷プレドストルムライナーで構成されており、プラズマの不均一性を効果的に低減し、プロセス能力と再現性を向上させます。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000の特許取得済みの垂直形状最適化ラジアルロング(VGタイラー)射出ツールは、排気(真空)およびプロセス&パージガスを効率的にプロセスに供給します。P5000は、優れたPCおよびモバイル通信機能を提供し、スタッフがどこからでも資産を監視および管理できるようにします。このモデルは、強力なオーブン制御モジュール(OCM)を使用して、正確な温度制御、in-situ diagnostics、および最大のプロセス再現性を実現する完全なウェーハレベルのプロセス制御を実現します。結論として、アプライドマテリアルズP-5000は、比類のないプロセス制御を提供し、高品質の蒸着、エッチング、クリーニング操作を可能にする、洗練されたハイテクなウェーハリアクターです。それは優秀なガスの均等性、優秀な温度調整および印象的なPC/移動式通信機能を提供します。高品質、高アスペクト比の処理をお考えの施設であれば、P-5000が理想的な選択です。
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