中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9185352 を販売中

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9185352
ウェーハサイズ: 4"
PVD Systems, 4".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、高性能プラズマ強化化学蒸着(PECVD)炉です。この原子炉は、さまざまな用途に使用できるさまざまな薄膜コーティングを製造することができます。幅広いガスでの運転を可能にする革新的なガス供給装置と、高温・蒸着速度での運転を可能にする高度なプラズマ発電システムを備えています。AMAT P-5000はロードロックユニットを使用して、材料のロードとアンロードを行います。これにより、オペレータの介入が不要になり、製品が過酷なプロセス環境にさらされないようになります。絶縁された部屋はプラズマを発生させるために高圧電源に接続される2つの電極を含んでいます。応用材料P 5000は、ガス流量制御機を使用して、チャンバーへのガス流量を正確に調整します。このツールは、最適なプロセス操作を保証するために、流量、温度、圧力をリアルタイムで測定することができます。また、フロー制御アセットにより、一貫した成膜のための精密かつ再現性のあるプロセス条件も可能になります。P-5000はあらゆる種類の基板を処理できる汎用性の高い原子炉です。基板表面全体の加熱で均一な成膜が可能な高度な温度制御モデルを備えています。P5000はまたフィルムの望ましい厚さおよび均一性を達成するために大きい区域および異なったライン速度に高い率でフィルムを沈殿させることができます。アプライドマテリアルズP-5000原子炉は、半導体、光電子、フラットパネルディスプレイ、MEMS、太陽光発電などの産業や研究開発環境での使用に最適です。UHVチャンバーと堅牢で信頼性の高い機器設計により、包括的なプロセス制御、正確な温度制御、および信頼性の高い結果を必要とするアプリケーションに最適です。使いやすく費用対効果の高いシステムで、精密な薄膜蒸着を必要とする様々な産業や研究用途に適しています。
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