中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9184961 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000リアクターは、先端材料の工業スケールの堆積とアニールを可能にするように設計された材料沈着およびアニール装置です。AMAT P-5000リアクターは、金属、合金、非金属などの幅広い材料を堆積およびアニールするために使用される真空チャンバータイプ、熱絶縁、高温、超高真空特殊プロセスシステムです。APPLIED MATERIALTS P 5000リアクターの設計により、最大4つの材料層を同時に処理することができます。原子炉室P5000、加熱基板と真空室の内部からの熱漏れを最小限に抑えるように設計されており、低10^-1から中10^-6 torrまでの範囲で真空圧力を維持するための高効率の拡散ポンプを備えています。チャンバーはステンレス製で、ビューポート、真空ポート、各種サンプルホルダー、サセプタープレートを備え、各種基板やサンプルを保持しています。拡散ポンプに加えて、チャンバーにはターボ分子ポンプ、様々なガスを供給し、クローズドループ圧力コントローラによって制御されるガス貯蔵タンクも含まれています。P 5000リアクターは、化学蒸着（CVD）、物理蒸着（PVD）、めっき、およびCVD/PVD/めっきハイブリッド技術など、さまざまな蒸着技術を通じて、ケイ化物、酸化物、窒化物、およびその他の高度な材料および合金を製造するのに理想的です。アニーリングプロセスは、AMAT P5000でオンサイトでも行うことができます。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000は、無機誘電材料や透明導体などの多層積層材料を複数のステップと基板で製造することも可能です。P-5000は正確で反復可能な結果を提供し、異なった材料および層を同時に、作り出される各層のための0。5ミクロンまでの厚さと処理できます。要約すると、AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000原子炉は、様々な材料の産業スケールの堆積とアニールのために設計された特殊な真空チャンバーユニットです。シリシド、酸化物、窒化物、およびその他の材料および合金の形成を可能にし、最大4層の反復および自動化された結果を同時に、最大0。5ミクロンの厚さの層で実現します。AMAT P 5000は、高効率、高精度、スケーラビリティを兼ね備えており、先端材料の大規模な生産に最適です。