中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9181901 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、半導体およびMEMS製造プロセスで使用するために設計された化学蒸着（CVD）炉です。AMAT P-5000は、ウェーハ処理を高速化し、ダウンタイムを最小限に抑えるように設計されたハイスループット機器で、使いやすいGUIと高度なオートメーション機能を備えています。応用材料P 5000 CVDリアクターは、ステンレス製のシェルで囲まれた真空チャンバーと、化学成膜チャンバー内のウェーハを配置するための基板キャリアで構成されています。室内には天井に取り付けられた基板ホルダーとガス入口があり、化学蒸気反応剤を室内に導入することができます。さらに、専用の熱交換器システム、真空ポンプ、および精密な処理結果を保証するために必要な熱安定性と均一性を提供するサセプターが装備されています。化学成膜プロセスでは、コンピュータ制御ユニットが機械内部のガスの圧力、温度、流れを調整し、目的の材料を基板に堆積させます。真空ツールは、チャンバー内に低圧環境を作成し、化学種の成功した効率的な堆積を可能にします。APPLIED MATERIALS P5000は拡張可能に設計されているため、特定のニーズに合わせてアセットを構成およびアップグレードできます。例えば、AMATはいくつかのモデルで原子炉を提供しており、それぞれにお客様のアプリケーションのニーズに最適なオプションとアクセサリを装備することができます。このモデルは、特定の条件が満たされていない場合に機器をシャットダウンするインターロックを備えた安全のためにも設計されています。結論として、P 5000は半導体およびMEMS製造プロセスで使用するために特別に設計された最先端のCVD炉です。その効率的な設計とカスタマイズ可能な機能により、これらのアプリケーションの要求の厳しいニーズに最適なソリューションです。