中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9118859 を販売中

ID: 9118859
CVD system Chambers: (2) Dep (2) Etch Spare robots.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000は、高度な材料システム処理用に特別に設計された高度なオートメーションリアクターです。この原子炉は、プロセスの再現性、精度、信頼性を確保するために、最高精度のドライブトレイン、容量、互換性、およびカスタマイズ技術を統合しています。AMAT P-5000は、柔軟なオートメーションアーキテクチャを活用して、さまざまなレベルの機器オートメーションプロセス要件を満たすために最適化されたパフォーマンスを提供します。アプライドマテリアルズP 5000リアクターは、ガス/ガス供給システム、オートメーション制御パネル、マルチゾーンラディアントヒーターアセンブリ、および半導体プロセスチャンバーで構成されています。ガス/ガス供給ユニットは、蒸気と液相の両方からリアクタントをタンクから原子炉にポンプで送ります。オートメーションコントロールパネルには強力なプロセッサが内蔵されており、チャンバー、ヒーター、その他のサブシステムに接続されています。圧力、温度、リアクタントガスの組成などの機械パラメータを制御する責任があります。マルチゾーンラディアントヒーターアセンブリは、ベローズ作動の機械構造に取り付けられた独立した制御可能なガス燃焼放射管のシーケンスで構成されています。このアセンブリのマルチゾーン機能により、正確な温度制御が可能になり、最適なプロセスレシピとパフォーマンスが可能になります。半導体プロセスチャンバーは、電磁コイルで裏打ちされた石英チャンバーで構成されています。これらのコイルはチャンバー内で交互に磁場を発生させ、反応プロセスを駆動しながら反応物質の分布を制御する役割を果たします。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000原子炉にもプロセス調整機能があり、起動および定常動作中の応答グルーミングを可能にします。これらのパラメータは、プロセスチャンバーが温度やリアクタント濃度などの一貫した主要プロセスパラメータを運用プロセス全体にわたって維持するように設定されています。また、P5000は幅広い化学物質に対応できるため、ナノ加工、気相成膜、薄膜成膜などの用途に適しています。結論として、AMAT P 5000は、パフォーマンスを最適化し、プロセスの再現性、精度、信頼性を向上させる高性能リアクタ・ツールです。APPLIED MATERIALS P5000は、自動化された部品と堅牢なプロセスコンディショニング機能を活用して、幅広い化学物質を処理することができ、先進的な材料システム処理にとって貴重なツールとなります。
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