中古 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9103464 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000原子炉は、半導体基板のフレキシブルイオンインプラントおよびイオンビーム蒸着処理用に設計されています。次世代半導体デバイスの高精度加工が可能です。AMAT P-5000は、お客様がウェーハの特定の要件に合わせてイオンインプラントおよびイオンビーム蒸着プロセスを調整できるように、モジュール式で高度にカスタマイズ可能に設計されています。この装置は2つのチャンバーとチャンバー構成を備えており、最大4つのウエハを最大構成でサポートできます。チャンバーは独立した真空によって作動し、それぞれに独立した密閉された環境があります。APPLIED MATERIALS P 5000の最初のチャンバーには、イオン源、原子炉室、質量分析計システム、およびソース選択真空ユニットが収容されています。イオン源は核融合電源を有する円筒拡散容器です。ドーピング、ドーピングトランスポート、ドーピングダイオード閉じ込めなど、さまざまなウェーハ処理操作に適した幅広いエネルギーと起動ジオメトリを提供します。AMAT P5000の原子炉室には、浮遊磁気リングと調整可能な陽極板が取り付けられており、均一なイオンビーム爆撃条件と非常に低いバックグラウンド電流を提供します。APPLIED MATERIALS P5000の質量分析装置は、不純物の種を正確に識別し、インプラントおよび沈着パラメータを微調整するために設計されています。P 5000の2番目のチャンバーには、イオンインプラントおよびイオンビーム蒸着プロセスの完全なクローズドループ制御を提供するように設計されたプロセス制御およびデータ収集コンピュータがあります。このツールは、最小限の構成で迅速かつ簡単に制御できる高度なユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイスを備えています。P-5000は、プロセスチャンバーに存在するすべての種の濃度を完全に制御し、ビーム電流、イオン電流、エネルギー、および得られたビームの確率測定を制御することができます。また、ナノスケールの精度で再現可能な結果を得ることができます。AMAT P 5000の全体的な設計は、高性能ウェーハ処理技術の開発にとって非常に貴重なツールです。モデルのモジュラー特性と高精度のマイクロプロセッシング機能を組み合わせることで、ほぼすべての基板加工タスクのニーズに合わせた強力なツールとなります。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000の設計と機能を活用することで、プロセスエンジニアはこれまでにない効率と柔軟性で高精度な結果を達成できます。